江苏艾森半导体、艾森半导体（南通）申请光刻胶制备相关专利，优化光刻胶组成工艺，改善残留及侧壁角度问题

来源：新浪证券-红岸工作室

12月30日消息，国家知识产权局信息显示，江苏艾森半导体材料股份有限公司、艾森半导体材料（南通）有限公司申请一项名为“正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用”的专利。申请公布号为CN121232531A，申请号为CN202511696754.X，申请公布日期为2025年12月30日，申请日期为2025年11月19日，发明人王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅，专利代理机构苏州尚为知识产权代理事务所（普通合伙），专利代理师印丹，分类号G03F7/004、G03F7/039、H01L21/56。

专利摘要显示，本发明涉及光刻胶技术领域，具体涉及正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用，旨在解决显影后光刻胶在金属基材上易出现底部残留，并且在后续制程中金属电镀后刻蚀良率不佳的问题。其技术方案要点是：混合树脂，混合树脂包括第一树脂和第二树脂；引发剂，引发剂包括光致产酸化合物；猝灭剂，猝灭剂为碱性剂或酸致产碱剂；助剂，助剂包括保护剂，保护剂为基团改性的氮唑类化合物；溶剂，用于溶解上述物质制得正性化学放大型光刻胶，通过优化正性化学放大型光刻胶的组成和工艺，在保证工艺适配性和稳定性的前提下，有效改善产品在经过曝光显影后的侧壁角度以及显影后光刻胶在金属基材上底部残留问题。

艾森股份成立于2010年3月26日，于2023年12月6日在上海证券交易所上市，注册地址与办公地址均位于江苏省。该公司是国内电子化学品领域的重要企业，专注电子化学品研发生产，产品具技术优势。

艾森股份主要从事电子化学品的研发、生产和销售业务，所属申万行业为电子 - 半导体 - 半导体材料，涉及电子化学品、光刻胶、先进封装等概念板块。

2025年三季度，艾森股份实现营业收入4.39亿元，在行业25家公司中排名第19，远低于第一名有研新材的67.7亿元和第二名雅克科技的64.67亿元，行业平均数为14.97亿元，中位数为8.27亿元；净利润为3486.73万元，行业排名16，第一名雅克科技达8.64亿元，第二名江丰电子为3.61亿元，行业平均数为6112.16万元，中位数为7390.27万元。

江苏艾森半导体材料股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利公布CN202511696754.X2025-11-19CN121232531A2025-12-30王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅2一种正性光刻胶组合物及其应用发明专利公布CN202511428021.82025-09-30CN121187074A2025-12-23霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、陆晓健、袁会芳、周浩杰、李双庆、董仲舒3一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用发明专利公布CN202511396221.X2025-09-28CN121209205A2025-12-26霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、周浩杰、李双庆、袁会芳4可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392757.42025-09-26CN120972456A2025-11-18安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、吴滢骅、王玉龙、黄丞5一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392756.X2025-09-26CN121050180A2025-12-02杨彦、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、黄丞、吴滢骅、王玉龙6近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392758.92025-09-26CN121142904A2025-12-16吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞7一种银蚀刻液组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510690819.32025-05-27CN120249979A2025-07-04胡青华、张兵、向文胜、赵建龙、蔡洁、王元元8基于超纯硫酸钴的高稳定性电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510658206.12025-05-21CN120250088A2025-07-04吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威9一种用于先进封装的镀铜电镀液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510634902.92025-05-16CN120443279A2025-08-08周家珠、张兵、向文胜、赵建龙、刘安、吕涛、廖伟10化学放大型正性光刻胶、阵列工艺和OLED发明专利实质审查的生效、公布CN202510438392.82025-04-09CN120255283A2025-07-04周浩杰、张兵、向文胜、赵建龙、李双庆、袁会芳、李一帆、王浩冲、董仲舒、陆晓健11用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶发明专利实质审查的生效、公布CN202510432720.32025-04-08CN120289699A2025-07-11安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、王玉龙、黄丞12一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510151936.22025-02-11CN119987134A2025-05-13陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙13降低晶圆应力的方法、晶圆及其制备方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510066128.62025-01-15CN119905417A2025-04-29程晋广、张兵、向文胜、赵建龙、刘斌14感光性组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597503.12024-11-11CN119179233A2024-12-24刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、洪勇波、马广元、胡泽明、檀轩15感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597632.02024-11-11CN119264339A2025-01-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮、程晋广16一种厚膜负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411532301.92024-10-30CN119414658A2025-02-11卞玉桂、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、陆晓健17一种感光性组合物及其应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411509592.X2024-10-28CN119395943A2025-02-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、檀轩、程晋广18感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、结构、部件及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411439374.32024-10-15CN119225118A2024-12-31刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮19负性感光树脂组合物、制备方法及光刻产品发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411424814.82024-10-12CN119270588A2025-01-07张威、张兵、向文胜、赵建龙20光伏用电镀锡溶液发明专利实质审查的生效、公布CN202411317253.12024-09-20CN118880404A2024-11-01陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟21显影液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410848708.62024-06-27CN118605093A2024-09-06邱柱、张兵、杜冰、张志强、梁豹、徐栋、赵建龙、向文胜22锡银电镀液发明专利实质审查的生效、公布CN202410738621.32024-06-07CN118531462A2024-08-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙23一种化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410610943.X2024-05-16CN118550155A2024-08-27陆晓健、安杨翔、杨彦、张兵、向文胜、赵建龙24单组分半导体被动元件用油墨、方法、封装结构及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410522511.32024-04-28CN118256112A2024-06-28黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙25一种半导体被动元件封装用油墨及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410505028.42024-04-25CN118325389A2024-07-12王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙26一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙27一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙28不伤铜的铝蚀刻液发明专利实质审查的生效、公布CN202410087904.62024-01-22CN117904633A2024-04-19邱柱、杜冰、梁豹、张兵、向文胜、赵建龙29IBC电池单晶硅制绒添加剂和腐蚀液、及制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311789033.42023-12-25CN117758373A2024-03-26赵建龙、王杰、张兵、向文胜30一种IBC电池单晶硅及其碱抛光刻蚀添加剂、刻蚀液与刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311791181.X2023-12-25CN117777863A2024-03-29赵建龙、王杰、张兵、向文胜31一种负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311731529.62023-12-15CN117631454A2024-03-01卞玉桂、张志强、顾后荻、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋32可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311726813.42023-12-15CN117757070A2024-03-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广33一种干膜去除液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311552838.72023-11-21CN117590708A2024-02-23邱柱、杜冰、张志强、徐栋、张兵、向文胜、赵建龙34一种高分辨负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311504515.02023-11-13CN117406550A2024-01-16卞玉桂、顾后荻、张志强、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋35硅基改性的丙烯酸酯类化合物和用于封装有机发光二极管的组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202311399456.52023-10-26CN117447508A2024-01-26黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙36一种纯锡电镀添加剂及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311381349.X2023-10-24CN117431593A2024-01-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟37自感光型光敏性聚苯并噁唑前驱体树脂及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311188827.52023-09-14CN117285710A2023-12-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广38一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310914753.22023-07-25CN116859686A2023-10-10卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、姚国强、张兵、向文胜、赵建龙39半导体被动元件封装用油墨及其制备方法、器件及设备发明专利授权、公布CN202310910550.62023-07-24CN116751479B2025-09-26王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙40感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310402271.92023-04-14CN116414000B2024-12-20刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广41具有低温交联和低弹性模量的感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403373.22023-04-14CN116430673B2025-02-07刘斌、向文胜、刘壮、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广42感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403361.X2023-04-14CN116609999B2025-02-07刘斌、向文胜、毛瑞、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广43感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403034.42023-04-14CN116414001B2025-02-18刘斌、向文胜、马广元、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广44感光性聚酰亚胺组合物、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310403043.32023-04-14CN116661243B2025-02-25刘斌、向文胜、洪勇波、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广45感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202211663749.52022-12-23CN115826360B2023-09-12刘斌、向文胜、刘壮、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广46负性感光性聚酰亚胺组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202211657771.92022-12-22CN115840335A2023-03-24刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、鲍杰47一种用于先进封装负性厚膜光刻胶发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202211411263.22022-11-11CN115793396B2025-02-11卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙48显影组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202211407335.62022-11-10CN115903406A2023-04-04周家珠、刘安、张兵、向文胜、赵建龙49一种高分子量丙烯酸树脂发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202211333216.02022-10-28CN115710328A2023-02-24卞玉桂、张威、杨彦、陆晓健、安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙50一种厚膜负性光刻胶及配胶方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202210909623.52022-07-29CN115138230B2023-06-13卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙

天眼查数据显示，艾森半导体材料（南通）有限公司成立日期1970年1月18日，法定代表人沈鑫，所属行业为化学原料和化学制品制造业，企业规模为小型，注册资本20000万人民币，实缴资本10000万人民币，注册地址为江苏省南通市开发区老洪港管理委员会通达路86-1号。艾森半导体材料（南通）有限公司共对外投资了0家企业，参与招投标项目7次，财产线索方面有商标信息0条，专利信息54条，拥有行政许可10个。

艾森半导体材料（南通）有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人1正性化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利公布CN202511696754.X2025-11-19CN121232531A2025-12-30王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、黄丞、吴滢骅2一种正性光刻胶组合物及其应用发明专利公布CN202511428021.82025-09-30CN121187074A2025-12-23霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、陆晓健、袁会芳、周浩杰、李双庆、董仲舒3一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用发明专利公布CN202511396221.X2025-09-28CN121209205A2025-12-26霍建辉、张兵、向文胜、赵建龙、周浩杰、李双庆、袁会芳4可形成倒梯形剖面的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392757.42025-09-26CN120972456A2025-11-18安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、吴滢骅、王玉龙、黄丞5一种超厚膜负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511392756.X2025-09-26CN121050180A2025-12-02杨彦、张兵、向文胜、赵建龙、安杨翔、黄丞、吴滢骅、王玉龙6近紫外波段通用的负性光刻胶及其制备方法和使用方法发明专利公布CN202511392758.92025-09-26CN121142904A2025-12-16吴滢骅、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、王玉龙、黄丞7一种银蚀刻液组合物及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510690819.32025-05-27CN120249979A2025-07-04胡青华、张兵、向文胜、赵建龙、蔡洁、王元元8基于超纯硫酸钴的高稳定性电镀液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510658206.12025-05-21CN120250088A2025-07-04吴华宇、张兵、向文胜、赵建龙、张威9一种用于先进封装的镀铜电镀液及其应用发明专利实质审查的生效、公布CN202510634902.92025-05-16CN120443279A2025-08-08周家珠、张兵、向文胜、赵建龙、刘安、吕涛、廖伟10化学放大型正性光刻胶、阵列工艺和OLED发明专利实质审查的生效、公布CN202510438392.82025-04-09CN120255283A2025-07-04周浩杰、张兵、向文胜、赵建龙、李双庆、袁会芳、李一帆、王浩冲、董仲舒、陆晓健11用于高分辨率负性光刻胶的树脂的纯化方法和光刻胶发明专利实质审查的生效、公布CN202510432720.32025-04-08CN120289699A2025-07-11安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、张威、王玉龙、黄丞12一种丙烯酸负性光刻胶及其制备方法与应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510151936.22025-02-11CN119987134A2025-05-13陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙13降低晶圆应力的方法、晶圆及其制备方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510066128.62025-01-15CN119905417A2025-04-29程晋广、张兵、向文胜、赵建龙、刘斌14感光性组合物、图形的制备方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597503.12024-11-11CN119179233A2024-12-24刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、洪勇波、马广元、胡泽明、檀轩15感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、固化物和电子部件发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411597632.02024-11-11CN119264339A2025-01-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮、程晋广16一种厚膜负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411532301.92024-10-30CN119414658A2025-02-11卞玉桂、张兵、向文胜、赵建龙、杨彦、安杨翔、陆晓健17一种感光性组合物及其应用发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411509592.X2024-10-28CN119395943A2025-02-07刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、檀轩、程晋广18感光性聚酰亚胺组合物、图形的制造方法、结构、部件及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411439374.32024-10-15CN119225118A2024-12-31刘斌、张兵、向文胜、赵建龙、胡泽明、洪勇波、刘壮19负性感光树脂组合物、制备方法及光刻产品发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411424814.82024-10-12CN119270588A2025-01-07张威、张兵、向文胜、赵建龙20光伏用电镀锡溶液发明专利实质审查的生效、公布CN202411317253.12024-09-20CN118880404A2024-11-01陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟21显影液、制备方法及应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410848708.62024-06-27CN118605093A2024-09-06邱柱、张兵、杜冰、张志强、梁豹、徐栋、赵建龙、向文胜22锡银电镀液发明专利实质审查的生效、公布CN202410738621.32024-06-07CN118531462A2024-08-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙23一种化学放大型光刻胶及其制备方法、使用方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410610943.X2024-05-16CN118550155A2024-08-27陆晓健、安杨翔、杨彦、张兵、向文胜、赵建龙24单组分半导体被动元件用油墨、方法、封装结构及装置发明专利实质审查的生效、公布CN202410522511.32024-04-28CN118256112A2024-06-28黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙25一种半导体被动元件封装用油墨及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202410505028.42024-04-25CN118325389A2024-07-12王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙26一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙27一种封装用油墨及其制备方法和应用、器件及设备发明专利授权、公布CN202410222597.82024-02-28CN118109075B2025-10-03陈沁、张燕红、黄时雨、王玉龙、张兵、向文胜、赵建龙28不伤铜的铝蚀刻液发明专利实质审查的生效、公布CN202410087904.62024-01-22CN117904633A2024-04-19邱柱、杜冰、梁豹、张兵、向文胜、赵建龙29IBC电池单晶硅制绒添加剂和腐蚀液、及制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311789033.42023-12-25CN117758373A2024-03-26赵建龙、王杰、张兵、向文胜30一种IBC电池单晶硅及其碱抛光刻蚀添加剂、刻蚀液与刻蚀方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311791181.X2023-12-25CN117777863A2024-03-29赵建龙、王杰、张兵、向文胜31一种负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311731529.62023-12-15CN117631454A2024-03-01卞玉桂、张志强、顾后荻、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋32可低温固化的聚酰亚胺树脂、光刻胶组合物及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311726813.42023-12-15CN117757070A2024-03-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广33一种干膜去除液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311552838.72023-11-21CN117590708A2024-02-23邱柱、杜冰、张志强、徐栋、张兵、向文胜、赵建龙34一种高分辨负性光刻胶及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311504515.02023-11-13CN117406550A2024-01-16卞玉桂、顾后荻、张志强、杨彦、安杨翔、陆晓健、张兵、向文胜、赵建龙、徐栋35硅基改性的丙烯酸酯类化合物和用于封装有机发光二极管的组合物发明专利实质审查的生效、公布CN202311399456.52023-10-26CN117447508A2024-01-26黄时雨、张燕红、王玉龙、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙36一种纯锡电镀添加剂及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202311381349.X2023-10-24CN117431593A2024-01-23陈春、张兵、向文胜、赵建龙、蒲伟37自感光型光敏性聚苯并噁唑前驱体树脂及其制备方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311188827.52023-09-14CN117285710A2023-12-26洪勇波、刘斌、向文胜、胡泽明、张兵、赵建龙、谢立洋、程晋广38一种用于去除铜层负性光刻胶的剥离液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310914753.22023-07-25CN116859686A2023-10-10卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、姚国强、张兵、向文胜、赵建龙39半导体被动元件封装用油墨及其制备方法、器件及设备发明专利授权、公布CN202310910550.62023-07-24CN116751479B2025-09-26王玉龙、张燕红、黄时雨、陈沁、张兵、向文胜、赵建龙40一种低铝腐蚀显影液及其制备方法和应用发明专利实质审查的生效、公布CN202310730678.42023-06-20CN116661263A2023-08-29赵建龙、邱柱、杜冰、顾后荻、徐栋、丁保安、张兵、向文胜41一种蚀刻液组合物及其应用发明专利授权、公布CN202310291744.22023-03-23CN116288351B2025-10-21蔡洁、胡青华、王元元、张兵、向文胜、赵建龙、杜冰、贾雪、桂立苏42蚀刻液组合物、制备方法及蚀刻方法发明专利实质审查的生效、公布CN202310244466.52023-03-14CN116162934A2023-05-26王元元、胡青华、蔡洁、张兵、向文胜、赵建龙、杜冰43一种光敏性树脂组合物及其应用发明专利授权CN202310230128.62023-03-10CN116375928B2025-11-28张威、向文胜、张兵、杜冰、贾雪44高速光亮电镀添加剂及电镀液发明专利授权、公布CN202310111768.52023-02-14CN115948776B2025-02-07陈春、张兵、向文胜、赵建龙45一种丙烯酸树脂、光刻胶及其制备方法与应用发明专利授权、公布CN202211548780.42022-12-05CN115873177B2025-01-28卞玉桂、杨彦、陆晓健、安杨翔、张兵、向文胜、赵建龙46一种高附着力且弯折性好的UV喷印油墨发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202110979943.32021-08-25CN113652118B2023-06-30高建鑫、黄时雨、张燕红、张兵、向文胜、赵建龙47一种钛钨蚀刻液及其制备方法和应用发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202110203281.02021-02-23CN112981405B2022-11-15顾群艳、梁豹、杜冰、邱柱、赵建龙、张兵、向文胜、朱坤48一种环氧树脂用高折射率聚酰亚胺光扩散剂发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202011221145.62020-11-05CN112390949B2022-06-28甘梦祥、徐楠、王元元、向文胜、谢立洋、张兵、赵建龙49光学透明性良好的有机硅改性脂环族环氧树脂及制备方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202010940421.82020-09-09CN112574391B2022-10-18徐楠、王元元、甘梦祥、向文胜、谢立洋、张兵、赵建龙50一种OLED array制程用正性光刻胶发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202010306398.72020-04-17CN111381445B2021-09-10卞玉桂、张兵、向文胜、赵建龙、陈小华、朱坤、陆兰、顾群艳

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