北京
国家知识产权局信息显示，北京华泰诺安技术股份有限公司申请一项名为“一种快速恢复的离子迁移谱装置及快速恢复方法”的专利，公开号CN121231602A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明的快速恢复的离子迁移谱装置包括迁移管，所述迁移管内自一端向另一端顺次间隔设有扩散渗透膜、离子化源、离子门和法拉第盘，所述迁移管设有前置放大器，所述扩散渗透膜和离子化源之间限定出吹扫腔，所述扩散渗透膜背离所述离子化源的一端限定出进样腔，所述离子化源和离子门之间限定出离子化腔，所述离子门和法拉第盘之间限定出迁移腔，所述迁移管连接有分别向所述进样腔和吹扫腔输送洁净气体，并吹扫所述扩散渗透膜两端的气体净化及输送系统；本发明的快速恢复的离子迁移谱装置包括迁移管结构设计合理，可以同时快速清洁扩散渗透膜两侧的多余被测物质，从而帮助离子迁移谱设备快速恢复可使用状态。
天眼查资料显示，北京华泰诺安技术股份有限公司，成立于2012年，位于北京市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本1332.253909万人民币。通过天眼查大数据分析，北京华泰诺安技术股份有限公司共对外投资了6家企业，参与招投标项目1次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息64条，此外企业还拥有行政许可5个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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