一提到“卡脖子”,大家先想到的大概率是芯片。
但有样东西其实比芯片还憋屈,那就是光刻胶。
但它却被美日企业攥着 90% 的市场,曾经咱们连仿造都摸不着门道。
它就像芯片的 “粮食”,没有它,再厉害的芯片设计也只能躺在图纸上,连生产线都上不去……
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被每日掐着脖子卖
光刻胶这东西,装在不起眼的棕色玻璃瓶里。
看着跟实验室里的普通试剂没两样,却是芯片制造中 “光刻环节” 的核心。
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简单说,就是通过紫外线照射光刻胶,让它在硅片上形成特定图案。
后续再跟着图案刻蚀、镀膜,最终做出几十亿个晶体管。
要说它的精度有多重要,比如造 7nm 芯片,光刻胶的线条误差得控制在 1 纳米以内。
比一根头发丝的万分之一还细,差一点整个硅片就全废了。
可全球能造出这种高端光刻胶的企业,一只手都能数过来。
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日本的 JSR、东京应化、信越化学,再加上美国的杜邦,这四家加起来占了全球 90% 以上的市场。
咱们国内每年要花几十亿美元从他们手里买,还得看人家脸色。
比如 2023 年日本收紧半导体材料出口管制时,国内几家晶圆厂差点因为光刻胶断供停线,最后花了高出平时 30% 的价格才紧急调货。
更让人憋屈的是 “差别对待”。
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美日企业把最好的光刻胶(比如用于 7nm 及以下制程的 EUV 光刻胶)只卖给自己国家的芯片厂。
卖给咱们的大多是用于 28nm 以上成熟制程的 “淘汰款”。
为啥连 “山寨版” 都难造?
有人可能会问,仿造不行吗?
还真不行,这玩意儿的技术壁垒高得吓人。
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不是简单调调配方就能成,从原材料到工艺全是坑。
先说核心材料,树脂和光敏剂的合成就是第一道坎。
金属杂质得控制在 ppt 级别,比头发丝还细几万倍,差一点就全白费。
这精度,咱们以前的设备根本达不到。
再说量产工艺,日本企业能做到每一批产品都一模一样。
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咱们早期试产时,今天造的和明天造的性能差一截,根本没法给芯片厂用。
芯片厂要的是稳定,差一丝一毫都不敢用。
还有专利卡脖子,美日企业早把关键技术全申请了专利。
想绕开,难如登天。
以前有团队试过,折腾好几年,最后还是碰壁。
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憋屈到奋起!
看着每年白送几十亿,还被人卡脖子,谁能甘心?
这些年,科研团队和企业憋着一股劲,非要把这东西造出来。
北京有家叫光引聚合的公司,硬生生攻克了树脂合成的难题。
他们的产品经过两年测试,各项指标都达标。
有位老科学家用上国产货时,激动得不行,说总算没白等。
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浙江的八亿时空更厉害,建了国内首条百吨级生产线。
他们搞了 “柔性研发 + 量产” 模式,既能快速调配方,又能保证产品稳定。
现在他们的 KrF 光刻胶,已经能供 12 英寸晶圆厂用了。
更让人振奋的是恒坤新材,他们的产品都覆盖 7nm 工艺了,年底产能还要翻番。
以前想都不敢想的事,现在真的做成了。
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突破背后,是真金白银和咬牙坚持
这突破可不是天上掉下来的,全靠真金白银砸和玩命干。
国家大基金三期直接投了 500 多亿在半导体材料上,科技部还设了 20 亿专项经费。
企业也没含糊。
科研团队平均年龄才二十八九岁,天天泡在实验室。
夏天闷热得流汗,冬天加班到深夜,失败了就复盘重来,没人喊苦。
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还有产业链协同,以前送样测试要一两年,现在企业和晶圆厂绑在一起搞研发,周期大大缩短。
这就是抱团取暖的力量,单打独斗根本没戏。
不过咱们也得清醒,现在还没到庆功的时候。
最顶尖的 EUV 光刻胶,咱们还造不出来,完全依赖进口。
这可是未来先进制程的关键,得抓紧攻。
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产能也是个问题,日本信越一家厂的产能,就顶咱们全国的十倍。
咱们现在能满足部分需求,但想彻底替代进口,还得扩产能。
而且美日企业也在反扑,他们开始降价抢市场。
咱们不能只靠价格优势,得在技术上真正超越他们,才能站稳脚跟。
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结语
从连山寨版都造不出,到现在能跟美日同台竞技,这步子迈得够大。
但光刻胶的突围只是开始,还有很多 “卡脖子” 难题等着解决。
关键核心技术,买不来也讨不来,只能靠自己拼。
相信再给几年时间,咱们肯定能把更多 “卡脖子” 的帽子甩在身后,真正掌握发展的主动权。
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