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金融界2025年8月23日消息，国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“用于光刻图案化的方法、结构和系统”的专利，公开号CN120522969A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，用于光刻，特别是极紫外光刻(EUV)的方法、相关结构和相关系统。本公开的方法可以包括形成具有高sp3碳含量的碳底层。本公开的方法可以包括通过循环沉积过程比如等离子体增强原子层沉积形成碳底层。
本文源自：金融界
作者：情报员
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