北京
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金融界2025年6月21日消息，国家知识产权局信息显示，ASM IP私人控股有限公司申请一项名为“改进的区域选择性沉积”的专利，公开号CN120184089A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，用于在衬底上选择性沉积的方法、系统和设备，包括在反应室中提供衬底，衬底包括第一表面和第二表面，其中第一表面与第二表面在材料上不同，其中第一表面是金属氧化物、金属氮化物、金属氮氧化物或金属碳化物或者其组合，其中第二表面是电介质或金属，并且使衬底与包含疏水性化合物的前体接触，以相对于第二表面在第一表面上选择性地沉积钝化层。
本文源自：金融界
作者：情报员
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