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金融界2025年6月3日消息，国家知识产权局信息显示，仪征纳环科技有限公司取得一项名为“一种能提高镀膜涂层致密性的DLC真空镀膜设备”的专利，授权公告号CN222935498U，申请日期为2024年07月。
专利摘要显示，本实用新型涉及DLC真空镀膜技术领域，且公开了一种能提高镀膜涂层致密性的DLC真空镀膜设备，包括基板，所述基板的顶部设置有DLC真空镀膜机主体，所述DLC真空镀膜机主体的一侧连通有DLC真空镀膜箱体，所述基板的顶部设置有进出料机构，所述进出料机构包含有调节箱，所述调节箱与基板固定连接，所述调节箱内腔的底部固定安装有步进电机，所述步进电机的输出轴固定安装有单向螺纹杆，所述单向螺纹杆的表面螺纹连接有调节螺块。本实用新型通过设置进出料机构，其中放置板用来放置工件，通过控制步进电机的正转与反转，可对箱体底座的高度进行调节，方便放料和取料，通过设置降温机构，可对工件进行吹风，加速工件冷却，方便拿取工件。
本文源自：金融界
作者：情报员
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