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金融界2025年2月13日消息，国家知识产权局信息显示，武汉光谷信息光电子创新中心有限公司申请一项名为“一种光电探测器及其制造方法”的专利，公开号 CN 119403246 A，申请日期为 2024年10月。
专利摘要显示，本公开实施例提供一种光电探测器及其制造方法。一种光电探测器包括：基底，所述基底的表面为具有第一掺杂的波导层；依次层叠于所述基底上的锗吸收层和具有第二掺杂的半导体层；所述波导层、所述锗吸收层和所述半导体层构成垂直PIN结构；其中，所述锗吸收层在第一方向上的长度小于所述半导体层在所述第一方向上的长度；所述第一方向垂直于光信号的传输方向且垂直于层叠方向。
天眼查资料显示，武汉光谷信息光电子创新中心有限公司，成立于2017年，位于武汉市，是一家以从事软件和信息技术服务业为主的企业。企业注册资本16000万人民币，实缴资本16000万人民币。通过天眼查大数据分析，武汉光谷信息光电子创新中心有限公司参与招投标项目88次，知识产权方面有商标信息8条，专利信息304条，此外企业还拥有行政许可5个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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