北京
分享至
国家知识产权局信息显示，杭州富芯半导体有限公司申请一项名为“化学机械研磨方法及化学机械研磨系统”的专利，公开号CN122683610A，申请日期为2026年7月。
专利摘要显示，本申请涉及一种化学机械研磨方法及化学机械研磨系统。该化学机械研磨方法包括：获取抛光垫表面的形貌信息；根据抛光垫表面的形貌信息动态调整抛光垫修整器的修整参数为目标修整参数；基于目标修整参数修整抛光垫的表面。本申请用于实现抛光垫表面形貌的在线重构与抛光垫修整参数调节的闭环控制，从而有效提升化学机械研磨的研磨质量及研磨效率。
天眼查资料显示，杭州富芯半导体有限公司，成立于2019年，位于杭州市，是一家以从事批发业为主的企业。企业注册资本945000万人民币。通过天眼查大数据分析，杭州富芯半导体有限公司参与招投标项目37次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息383条，此外企业还拥有行政许可28个。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
