北京
国家知识产权局信息显示，浙江创芯集成电路有限公司申请一项名为“光学邻近修正模型的建立方法及相关设备”的专利，公开号CN122568868A，申请日期为2026年6月。
专利摘要显示，本公开实施例提供一种光学邻近修正模型的建立方法及相关设备，方法包括：提供有源区层版图、多晶硅测试图形版图以及量测数据；多晶硅测试图形版图包括横跨有源区边界的多晶硅线条，量测数据包括多晶硅线条在晶圆上的第一实测边缘位置；根据有源区层版图，确定有源区图形密度；根据有源区图形密度和有源区层版图，构建有源区图形密度修正项；根据有源区图形密度修正项、多晶硅测试图形版图，以及预设光强调制系数，构建初始光强分布函数；利用预设的光刻胶模型和第一实测边缘位置，对初始光强分布函数进行至少一次迭代更新，以修正有源区图形密度修正项，得到目标光强分布函数。采用上述技术方案，能够有效改善有源区边界区域的修正精度。
天眼查资料显示，浙江创芯集成电路有限公司，成立于2020年，位于杭州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本214766.6666万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江创芯集成电路有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目293次，财产线索方面有商标信息21条，专利信息667条，此外企业还拥有行政许可7个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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