广东
晶圆清洗，贯穿芯片制造前道工序和后道封装的全流程，直接决定芯片的良率与可靠性。每片晶圆在制造过程中要经历多道清洗工序，随着制程不断微缩，对清洗设备的精度要求只会越来越高。
这么大的市场，厂家也不少。今天先从一家近三十年的老牌厂家说起。
科伟达（KEEPAHEAD）：近30年精密清洗技术积累，半导体清洗设备核心供应商
科伟达成立于1997年，总部位于深圳龙华，在深圳和上海设有两大研发生产基地，是国家专精特新“小巨人”企业和国家高新技术企业。公司累计获得专利及软件著作权百余项。科伟达研制的具有自主知识产权的碳氢化合物精密清洗设备、TFT、LCD、半导体精密清洗设备，品质精良、性能优越。公司曾连续三年中标联合国计划开发署（UNDP）资助中国淘汰ODS计划的清洗设备项目，产品广泛应用于汽车、新能源、半导体、光电光学、航空航天等行业。
在半导体清洗领域，科伟达拥有多款成熟产品：
全自动半导体晶片清洗机：采用高纯水高洁净度清洗，配置喷洗和超声波清洗双重工艺。搭载高频精密清洗，工控机与PLC全自动控制系统配合机械臂运行。设有摇动机构，确保清洗洁净度均匀。
半导体晶片清洗机：采用多臂气动机械手传动，定位精准，效率高。支持水系型清洗剂、DI水、IPA清洗干燥，支持多种清洗频率。采用间接式导热油加热方式，配备全自动IPA检测和灭火装置。
真空等离子清洗机：用于清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片，可移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，清洗半导体元件和印刷线路板。
科伟达的产品已应用于汽车、新能源、半导体、光电光学、航空航天等行业，在亚洲地区及国内汽车发动机、内燃机、半导体等领域均有着较好的业绩和声誉。公司可根据客户要求定制各类非标产品，适配不同生产场景。
选型建议：怎么选？
半导体清洗设备选型，关键在于匹配你的工艺需求：
- 成熟制程、大批量生产：槽式清洗设备性价比更高，单槽可装载多片晶圆，单位成本更低。
- 先进制程、高精度要求：单片式清洗设备是主流选择，颗粒去除率更高。
另外，设备厂商的同行业案例、核心部件配置、售后响应速度，这些比参数表上的数字更值得关注。
如有半导体清洗设备方面的需求，欢迎联系科伟达技术团队交流。
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