北京
来源：新浪财经-锐眼工作室
近日，国家知识产权局集成电路布图设计专有权公告信息显示，广州金磁海纳新材料科技有限公司提交的“光刻机曝光均匀性纳米晶磁粉芯控制模块”布图设计正式获得国家知识产权局发布的集成电路布图设计专有权公告，标志着该企业在半导体核心配套控制领域的自主研发成果得到官方知识产权确权，为其后续相关技术的商业化落地与市场权益保护提供了坚实的法定支撑。此次公告的布图设计聚焦光刻机曝光环节的核心控制部件，是国内新材料企业跨界深耕半导体制造配套技术的重要落地成果，将进一步强化企业在细分赛道的技术竞争壁垒。
项目详情 发布时间2026年8月14日 布图设计登记号BS.265550432 布图设计申请日2026年4月8日 公告日期2026年8月14日 公告号98588 布图设计名称光刻机曝光均匀性纳米晶磁粉芯控制模块 布图设计权利人广州金磁海纳新材料科技有限公司 布图设计创作人王永飞 布图设计创作完成日2025年6月12日
本次国家知识产权局发布该布图设计专有权相关公告的时间为2026年8月14日，对应布图设计登记号为BS.265550432，该布图设计的正式申请提交日期为2026年4月8日，公告号为98588，涉及的布图设计全称为“光刻机曝光均匀性纳米晶磁粉芯控制模块”，该专有权的唯一权利人为广州金磁海纳新材料科技有限公司，布图设计的核心创作人为王永飞，整体创作完成时间为2025年6月12日。从时间线来看，该技术成果从创作完成到提交申请间隔不足一年，体现出企业对自主知识产权布局的高度重视，也反映出国内半导体配套领域的技术研发与知识产权确权衔接效率正持续提升。
天眼查数据显示，广州金磁海纳新材料科技有限公司成立日期2018年5月18日，法定代表人王永飞，所属行业为科技推广和应用服务业，企业类型为有限责任公司(法人独资)，企业规模为小型，参保人数94人，注册资本5800万人民币，实缴资本5800万人民币，注册地址为广州市黄埔区斗塘路55号之三101房201房301房。股东信息如下：
股东名称持股比例认缴出资额（万元）认缴出资日期金磁海纳新材料科技（南通）有限公司100%5800万元人民币2024年5月20日
点评分析
此次金磁海纳获得光刻机相关集成电路布图设计专有权，是其跨界深耕半导体制造配套技术的关键成果。该确权既为后续技术商业化落地、市场权益保护提供法定支撑，也进一步筑牢企业在半导体配套细分赛道的技术竞争壁垒，凸显其自主研发与知识产权布局的前瞻性。
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