北京
分享至
国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“在光刻设备中利用可移除膜进行夹持”的专利，公开号CN122555881A，申请日期为2024年12月。
专利摘要显示，描述了一种夹持系统。该夹持系统包括膜，该膜用作光刻设备中的掩模版（或晶片）和夹具之间的中间层。例如，如果膜经历磨损，则可以在现场更换该膜，而不是必须更换夹具的永久性部件，因为这更加困难。因为膜的尺寸类似于典型掩模版的尺寸，所以可以使用作为光刻设备的一部分的现有掩模版处置系统来更换该膜。与夹具和/或掩模版相比，膜是相对薄且柔顺的，使得膜可以被配置为首先联接到掩模版并且符合掩模版的形状，然后联接到夹具。这样，膜形成已知的可调谐界面，该界面被配置为将掩模版联接到夹具。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
