布图设计保护升级：从“登记证书”走向可运营资产

真正具有商业价值的，仍是能够覆盖核心产品、经得起撤销和侵权审查，并能与专利、技术秘密、软件著作权及合同安排形成组合保护的知识产权资产。

作者 | 布鲁斯

2026年8月3日，修订后的正式对外公布，这是该条例自2001年施行以来的首次全面修订，将自2026年10月15日起施行。同日，国家知识产权局同步发布，面向社会公开征求意见。

从2001年为入世搭建合规框架，到2026年为芯片产业自主创新保驾护航，跨越四分之一个世纪后的修订，折射的是中国集成电路产业从“跟跑”到“并跑”的格局之变。这套“条例+细则+指南”的制度组合拳，不仅是法条的技术更新，更将直接影响芯片设计企业的IP布局成本、维权效率与无形资产价值。

一、从“入世合规”到“产业刚需”：一部条例的25年演进

集成电路布图设计，是芯片中元件和互连线路的三维配置，既与芯片功能和性能密切相关，也可能成为被复制、仿制的对象。

2001年，伴随中国加入世界贸易组织的进程，《集成电路布图设计保护条例》正式出台。这套制度的核心初衷，是履行TRIPS协定项下的知识产权保护义务，构建符合国际规则的布图设计保护体系。彼时中国集成电路产业仍处于起步阶段，年布图设计登记量仅数百件，制度整体处于“备而少用”的状态，更多承担着营商环境与合规形象的功能。

此后二十余年间，中国集成电路产业规模快速扩张，设计企业数量爆发式增长，布图设计登记量逐年攀升，早已从小众知识产权类型变成芯片企业的基础IP资产。在此期间，条例建立了我国布图设计专有权保护制度，对鼓励相关技术创新发挥了重要作用。但与此同时，随着集成电路技术、设计方式和商业模式发生明显变化，旧条例的制度供给与产业实践的矛盾逐渐凸显：电子申请的法律效力缺乏明确规定、新型集成电路的保护边界模糊、侵权维权路径不畅、行政裁决程序缺乏细化规则、权利转让与质押的操作标准不一等问题，成为产业创新的制度掣肘。

2024年12月，条例修改草案公开征求意见，此后历经多轮打磨，于2026年7月10日经国务院第91次常务会议修订通过，2026年7月23日第842号国务院令公布，自2026年10月15日起施行。

此次修订并非局部条文调整，而是围绕产业发展需求的系统性升级。司法部、国家知识产权局负责人在答记者问中将条例此次修订的总体思路概括为：完善布图设计登记、保护和管理制度，将实践中行之有效的做法上升为行政法规，并与有关法律法规及国际条约做好衔接。

而同步公开的配套规章、规范性文件的征求意见稿，则是将条例的原则性规定转化为可落地的操作规则，实现“立法-执法-实务”的全链条衔接。

二、新条例四大核心变化：给产业带来哪些确定性？

这是该条例自2001年公布施行以来的第一次全面修订。对比2001年旧版条例，本次修订围绕“客体扩容、完善激励、程序提效、保护强化”四大方向展开，每一项修改都直指产业实践的痛点。

（一）保护客体扩容，覆盖技术迭代前沿

旧条例的保护范围聚焦传统半导体集成电路，而随着技术演进，集成光子芯片、量子芯片等新型器件逐步走向产业化，其布图设计的知识产权保护长期存在规则空白。

新条例延续了以半导体材料为基片的集成电路基本定义，同时规定：“对集成光子、量子等功能的集成电路的布图设计，可以依照本条例的规定予以保护。”这一规定明确将符合定义的新型集成电路纳入保护范畴，为前沿技术的创新成果提供产权保障，避免企业投入巨资研发的新型布图设计陷入“维权无据”的困境。

这一规定为新技术发展预留了制度空间，具有前瞻性，增强了制度对技术演进的适应性。当然，该规定也不宜理解为所有光子芯片、量子芯片或者其他新型器件均自动受到保护，具体布图设计仍需符合条例关于保护客体、独创性、登记期限等条件，并经依法登记后才能取得专有权。

（二）完善创作激励机制，新增奖励和报酬规定

新条例首次对布图设计创作人员的奖励和报酬作出明确规定。对于由法人或者非法人组织主持、依据其意志创作并由其承担责任的布图设计，该法人或者非法人组织虽然依法被认定为创作者，但仍应依照《中华人民共和国促进科技成果转化法》和国家有关规定，对符合条件的人员给予合理的奖励和报酬。

这一规定在明确单位享有相关权益的同时，也重视实际参与布图设计创作人员的利益，有助于在单位投入、成果归属与个人贡献之间建立更加合理的利益分配机制，调动研发人员参与创新和成果转化的积极性。有关单位应当结合自身研发管理和成果转化制度，进一步明确人员认定、贡献评价以及奖励和报酬的计算、支付方式。

需要注意的是，该规定针对的是条例第十三条第二款所规定的特定情形，并不意味着任何由员工参与创作的布图设计都必须依照同一规则支付奖酬。其具体适用还需要结合布图设计的创作组织方式、权利归属以及相关人员是否符合规定条件进行判断。

（三）登记程序优化，提升确权效率与质量 1. 独创性声明成为确定权利边界的关键文件

新条例最值得关注的变化之一，是把“独创性声明”列为申请登记必须提交的文件。

条例细化了独创性声明的提交要求，明确登记审查的标准尺度。申请人不仅要提交申请表以及布图设计的复制件或者图样，还应当在独创性声明中指明具有独创性的设计区域、设计要点和相应功能；如果主张布图设计整体具有独创性，也需要作出具体说明。

这一变化具有重要的实务意义。过去，登记证书能够证明权利存在，但究竟哪些区域构成受保护的独创性部分，有时仍需在撤销或者侵权纠纷中进一步查明。新条例明确，受保护的布图设计以登记的复制件或者图样所显示的内容为准，独创性声明可以用于解释布图设计的独创性。

这意味着申请人不能只提交图样、取得证书，还要在申请阶段尽可能准确地界定权利基础。短期看，这会增加申请文件准备和内部技术梳理的成本；长期看，则有助于降低权利边界不清带来的鉴定、诉讼和交易成本，让“什么能保护、保护到哪里”从申请阶段就更清晰，也从源头提升登记质量，降低后续撤销程序与侵权纠纷中的权利不确定性。

2. 登记审查更强调真实性和权利质量

此次修订后的条例新增诚实信用原则相关规定。新条例明确，登记申请应当以真实创作活动为基础，不得弄虚作假。提交的复制件或者图样应包含必要信息，并能够清楚显示具有独创性的部分。

国家知识产权局对申请进行初步审查。发现申请明显不符合法定要求的，可以要求申请人陈述意见或者补正；补正后仍不符合规定的，应当驳回。申请人对驳回决定不服，可以请求复审，并可对复审决定依法提起诉讼。

条例还完善了登记后的撤销机制，引入依请求撤销登记程序，类似于专利权无效宣告程序。任何人发现登记不符合有关规定，可以请求国家知识产权局撤销；登记一旦被撤销，布图设计专有权视为自始不存在。

因此，此次修订的重点不是简单“降低门槛”或“加快发证”，而是通过独创性声明、初步审查和撤销程序，提高登记权利的清晰度和稳定性。

3. 新增期限恢复和延长制度，完善程序救济

新条例建立了期限恢复和延长制度，为当事人因特殊情况延误期限、导致权利丧失提供补救途径。当事人因不可抗拒的事由延误条例规定或者国家知识产权局指定的期限，可以自障碍消除之日起2个月内、且自期限届满之日起2年内，说明理由并提交有关证明文件，请求恢复权利。

除不可抗拒的事由外，当事人因其他正当理由延误有关期限并导致权利丧失的，可以自收到国家知识产权局通知之日起2个月内请求恢复权利；延误复审请求期限的，则可以自复审请求期限届满之日起2个月内提出恢复请求。对于国家知识产权局指定的期限，当事人还可以在期限届满前说明理由并办理有关手续，请求延长。

不过，期限恢复制度并非适用于所有期限。条例明确规定，布图设计专有权的保护期限以及首次商业利用后2年内提出登记申请的期限，不能通过该制度恢复。期限延长也只适用于国家知识产权局指定的期限，不能用于延长条例直接规定的法定期限。企业因此仍应建立严格的期限监控机制，不能将权利恢复作为常规补救手段。

（四）完善权利运用机制，强化侵权救济 1. 权利运用规则更加完整

新条例不仅关注如何取得和保护权利，也进一步完善了转让、许可、共有和出质规则。

布图设计专有权转让应当订立书面合同，并向国家知识产权局登记，转让自登记之日起生效；许可合同应当自生效之日起3个月内备案；以布图设计专有权出质的，应当办理出质登记。

条例还规定，共有人对权利行使有约定的，按照约定处理；没有约定的，共有人可以单独使用，也可以通过普通许可方式许可他人使用，但取得的许可费应当在共有人之间分配。除此之外，行使共有权原则上需要取得全体共有人的同意。

这些规则有助于布图设计由单纯的防御性权利转化为可以许可、转让和融资的知识产权资产。但其商业价值最终仍取决于技术先进性、权利稳定性、市场需求以及是否能够形成可验证的许可收益，不能仅凭登记证书进行高估。

2. 侵权责任进一步明确，引入惩罚性赔偿

此次修订的重要变化之一，是引入惩罚性赔偿制度。

新条例明确，未经许可复制受保护布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分，或者为商业目的进口、销售以及以其他方式提供相关布图设计、集成电路或物品，可能构成侵权。赔偿数额首先按照权利人的实际损失或者侵权人的获利确定；二者难以确定的，可以参照许可使用费的倍数合理确定。对故意侵权且情节严重的，可以适用按照上述方法确定数额的1倍以上5倍以下的惩罚性赔偿。赔偿还应包括权利人为制止侵权所支付的合理开支。

在修订后的规定中，对于故意侵犯布图设计专有权且情节严重的行为，可以在按照上述方法确定数额的1倍以上5倍以下确定赔偿数额。“故意侵权”和“情节严重”需要同时具备。

惩罚性赔偿提高了恶意、严重侵权的违法成本，有助于遏制明知他人享有权利仍实施复制或者商业利用等行为。不过，该制度的实际效果仍取决于权利人能否证明侵权人的主观故意、侵权情节的严重程度，以及实际损失、侵权获利或者许可使用费等赔偿计算基础。

三、配套规章拟升级：细则与指南如何衔接新条例？

如果说条例是制度框架，那么实施细则与审查执法指南就是落地的“操作手册”。本次同步公开的两份征求意见稿，拟从操作层面全面衔接新条例的修订内容，其中三处调整直击行业痛点，值得重点关注。

（一）实施细则：专章规范权利行使，IP运营有章可循

本次实施细则拟作出修改的一大亮点，是拟新增“行使专有权的手续”专章，对应新条例中关于权利流转的相关规定，对布图设计专有权的转让登记、许可合同备案、质押登记等全场景操作流程作出明确规范：

• ✔明确转让、许可中涉及技术出口的合规要求，让跨境IP交易的流程边界更清晰；
• ✔细化质押登记的材料要求与办理流程，为布图设计无形资产融资提供制度支撑；
• ✔统一著录项目变更、权利放弃等常见事务的办理标准。

对企业而言，这意味着布图设计不再只是“拿个证书”的防御性资产，而是可以规范地进行许可、转让、质押的经营性资产。布图设计的资产流动性与商业价值有望进一步释放。

同时，细则进一步明确了“独创性部分应当是可实现独立功能的模块区域”这一审查标准，直接衔接新条例的独创性要求，统一了审查口径，让申请人在撰写申请文件时有明确的参照，避免因表述不符合要求被补正或驳回。

（二）审查与执法行政裁决指南：全流程细化，维权路径更清晰

原指南名称为《集成电路布图设计审查与执法指南（试行）》，本次拟更名为《集成电路布图设计审查与执法行政裁决指南》，名称变化的背后，是新条例对行政裁决制度定位的强化。

指南草案对行政裁决的全流程作出了详尽规定：从受理条件、立案标准、调查取证、口头审理，到裁决作出、送达执行、赔偿调解，每个环节都有明确的操作规范。对企业来说，相当于拿到了一份“行政裁决维权说明书”——需要准备什么材料、走什么流程、多久能出结果，都有了清晰的预期，大大降低了维权的门槛与不确定性。

在侵权判定层面，指南草案明确了“以权利人主张的独创性部分为审理范围”的原则，细化了“接触+实质相同”的比对方法，同时对常规设计抗辩、善意使用抗辩、权利用尽抗辩等常见抗辩事由的适用标准作出了界定。这既统一了执法尺度，也让企业在产品设计阶段就能更清晰地判断合规边界，降低侵权风险。

（三）全链条适配新型客体，前沿创新有规可依

两份配套文件均对新条例的客体扩容作出了响应：在集成电路分类中新增“集成光子功能”“集成量子功能”类别，在审查标准中明确新型布图设计的审查规则。这意味着从申请、审查到保护的全链条，新型集成电路布图设计都有了对应的操作依据，不会再出现“想登记没标准、想维权没依据”的尴尬局面。

不过，这两份文件目前仍是征求意见稿，具体名称、条款内容和办理要求均可能继续调整，值得持续关注。

结语：制度价值最终取决于权利质量

此次条例及配套规则修订，绝非一次简单的法条更新，而是中国集成电路知识产权保护体系的一次重要升级，其对产业商业生态的影响将逐步显现。其核心意义不只是提高侵权成本，更在于推动布图设计保护从“取得一张登记证书”转向“形成边界清楚、基础稳定并能够交易运用的权利”。

对于芯片企业而言，独创性声明将使申请环节与研发管理、证据留存和侵权比对更加紧密。企业需要更早地让研发、知识产权、法务和商业部门共同参与权利布局，而不能等产品上市后再补做登记材料。随着行政裁决程序的细化让快速维权成为可能，以及登记标准的清晰化降低申请与确权的试错成本，芯片设计企业的创新保护成本将显著降低，有利于企业将更多资源投入技术研发。

从市场角度看，权利边界更清晰，有助于许可、转让、质押和争议解决，布图设计的资产属性将进一步激活，不再只是躺在证书里的防御性权利，而是可以进行市场化交易、融资的无形资产。IP授权、芯片设计服务等产业分工环节的合规性将显著提升，有利于推动布图设计IP的流转与复用，促进产业分工细化，提升整个行业的创新效率。对投资机构与金融机构而言，布图设计的资产价值评估也将有更清晰的制度依据，有助于拓宽芯片企业的融资渠道。

当然，这并不会自动提高每一项布图设计的估值。同时，制度的价值最终取决于落地效果。布图设计侵权判定高度依赖技术比对，对行政裁决的专业能力、技术调查机制都提出了很高要求；新型客体的审查标准也需要在实践中逐步细化。企业不能坐等制度保护，而应当主动调整IP布局策略，将布图设计与专利、商业秘密等权利类型组合运用，构建多层次的知识产权防护体系。真正具有商业价值的，仍是能够覆盖核心产品、经得起撤销和侵权审查，并能与专利、技术秘密、软件著作权及合同安排形成组合保护的知识产权资产。

总体而言，从2001年的合规跟随，到2026年的产业引领，布图设计保护制度的迭代，本质是中国集成电路产业创新能力升级的缩影。随着这套制度的落地生效，芯片创新的产权激励将更充分，产业高质量发展的制度底座也将更坚实。

封面来源 | AI生成