北京
国家知识产权局信息显示，宁波华高信息科技股份有限公司申请一项名为“一种基于误差模型的打印模板修正方法、设备及存储介质”的专利，公开号CN122501061A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明提供一种基于误差模型的打印模板修正方法、设备及存储介质，包括在待打印的纸张上进行N次打印，打印出N排相同结构的定位方块阵列，每排定位方块阵列仅由一个独立的打印Pass打印形成；扫描纸张，获得定位方块阵列图像；图像预处理，提取各定位方块的方块轮廓，得到各定位方块的中心点；计算每排定位方块阵列的平均垂直坐标与平均水平坐标；计算得到相邻两排定位方块阵列之间的实际间距；得到各打印Pass垂直向和/或水平向的对位误差；生成对位误差补偿表，通过打印机控制器读取对位误差补偿表，动态调整打印参数抵消对位误差。本申请能够减少打印中的横纹、重影现象，提升打印质量，精细化校正效果，成本低，易集成。
天眼查资料显示，宁波华高信息科技股份有限公司，成立于2016年，位于宁波市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本5128.205万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波华高信息科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目181次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息72条，此外企业还拥有行政许可8个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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