北京
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国家知识产权局信息显示，西安天瑞达光电技术股份有限公司申请一项名为“一种薄壁叶片进排气边的激光冲击强化方法”的专利，公开号CN122484450A，申请日期为2026年5月。
专利摘要显示，本发明提供一种薄壁叶片进排气边的激光冲击强化方法，强化方法包括：步骤S1、提取叶片进排气边强化区域的关键结构特征，并基于关键结构特征设计特征结构试样及特征平板试样；步骤S2、基于特征结构试样获取高能量激光冲击优选工艺参数；步骤S3、基于特征平板试样获取低能量激光冲击优选工艺参数；步骤S4、先采用高能量激光冲击优选工艺参数对叶片进排气边强化区域圆角进行激光冲击强化，再采用低能量激光冲击优选工艺参数对叶片进排气边强化区域叶背及叶盆面进行激光冲击强化，完成强化处理。本发明可以有效调控薄壁叶片进排气边的强化应力场，提高薄壁叶片进排气边抗疲劳性能。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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