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IT时代网7月30日消息，御微半导体7月29日宣布，全新自研的掩模图形缺陷检测设备Raptor-600正式发运国内头部晶圆厂——这是国内首款可完整覆盖90nm至28nm制程节点的同类设备。
掩模版是芯片光刻环节的核心“母版”，它的品质直接左右整片晶圆的生产良率。别小看一个细微的图形缺陷，搞不好整批晶圆都得报废。
这台设备能分辨精细图形、规避辅助图形干扰，快速检出图形缺损、表面污染物等各类问题，同时适配掩模制造厂、晶圆厂两大场景，满足全流程品质管控需求。
从时间线看，御微的迭代速度不慢。2025年初，可完整覆盖90nm及以上制程的初代机型Raptor-500交付落地；经过一年多现场产线打磨，Raptor-600完成了全方位技术升级——自研高分辨率透反射双光路紫外成像系统，同步捕捉各类影响掩模及光刻良率的缺陷；搭载纳米级高精度运动平台，保障检测定位微米级稳定精度；配套超大图像并行计算引擎，缺陷识别速度与适配性大幅提升。
注：本文中包含AI辅助创作的内容。
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