北京
国家知识产权局信息显示，恒超源洗净科技（深圳）有限公司申请一项名为“一种半导体深孔的变频超声波清洗装置及方法”的专利，公开号CN122161365A，申请日期为2026年4月。
专利摘要显示，本发明公开了一种半导体深孔的变频超声波清洗装置及方法，属于半导体晶圆加工技术领域，该装置包括单槽超声波清洗机，单槽超声波清洗机上设置有清洗槽，单槽超声波清洗机的上端一侧设置有移动升降组件，移动升降组件上安装有连接臂，连接臂上卡接有半导体吊篮，半导体吊篮的内部放置晶圆片，移动升降组件驱使连接臂横向移动以及上下移动调节高度，连接臂的两侧设置有倾斜的声波反射板，连接臂上安装有两个调节组件，通过在连接臂两侧设置倾斜的声波反射板，利用45度夹角的结构设计，能够将清洗槽内竖直向上传播的超声波反射转化为横向水平传播，使超声波直接作用于晶圆片上的深孔区域，显著提升深孔清洗的彻底性，避免深孔内杂质残留。
天眼查资料显示，恒超源洗净科技（深圳）有限公司，成立于2014年，位于深圳市，是一家以从事通用设备制造业为主的企业。企业注册资本1080万人民币。通过天眼查大数据分析，恒超源洗净科技（深圳）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息64条，此外企业还拥有行政许可13个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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