中国芯片进入14nm自主攻关时期，依靠14nm产业链向7nm发起冲击

前沿导读

据中国半导体产业多位领军人在《科技导报》发布的专题报告指出，我国已经在卫星、国家安全、军事网络等战略体系下所应用的芯片做到了100%自主可控，为国家安全构建出一道坚实的城墙。下面要面临的挑战，则是在具有Fin FET晶体管结构的14nm工艺节点实现自主可控，紧接着便是依靠自主可控的14nm产业链，向7nm、5nm等先进节点发起自主可控的技术攻坚。

自主技术

芯片产业的体系构成分为最上游设计步骤的EDA工具，紧接着是制造设备、材料、工厂、制程技术、封测等硬件制造环节，最后则是将芯片搭载到终端载体上面，然后将其与操作系统进行匹配后投入市场进行销售。

在整个环节当中，每一个步骤都需要专门的软硬件工具进行制造。缺少了任意一个技术设备，整个产业链便会被切断，无法正常交付产品。

此前美国对中国芯片产业所实施的制裁限制，就是依靠中国企业在制造环节的薄弱点进行痛击。

先禁止其他企业给相关品牌代工芯片，然后封锁外来的制造设备，最后则是通过施加额外关税、拉拢国际巨头在美国本土发展等方法，让中国芯片在国际市场上失去竞争力，进而将中美芯片技术的差距进一步拉大。

这种在产业链上面的制裁，让中国芯片产业出现了不同程度的技术断层。虽然中国企业在先进芯片上出现了几年的停滞，但是却加速了自主技术的快速发展。

先来看最上游的EDA工具领域，我国早在1993年便开发出了自主知识产权的熊猫EDA工具，随后从2002年起，华大九天、广立微、概伦电子等国产EDA企业陆续成立，开始在EDA软件领域进行针对性技术研发。

不同类型产品所需求的EDA工具是不一样的，不管是模拟电路、存储电路、射频、显示面板等半导体器件，还是晶圆制造、芯片封装等制造环节都需要不同的EDA工具参与软件设计。

截止到2024年，华大九天已经成为了国内EDA领域的龙头，以1.56亿美元的企业销售额位居全球EDA企业第六名的成绩，已经成为了中芯国际、海思半导体、紫光展锐、京东方等本土企业的核心供应商。

在下一步设计领域，中国企业与国际水平较为接近，但是受美国制裁条例的影响，双方的整体营收规模差距很大。甚至英伟达一家创造的营收，要比后两名加在一起还多两倍左右。

不过海思半导体的技术水平有目共睹，无论是当年台积电制造的最后一代麒麟9000，还是采用自研大核心架构、支持超线程的麒麟9000S，都能体现出海思的设计水平。并且海思还涉及传感器、音频、模拟芯片等其他技术业务。

另一家紫光展锐则是专注于中低端芯片的设计工作，虽然只涉足中低端芯片设计，但紫光展锐的产品线广泛，旗下的芯片被大量用在智能手表、儿童手表、学习机等各类细分的产品领域。

海思半导体与紫光展锐设计的芯片，可以算是中国大陆地区出货量最多的两大品牌。海思主打中高端设计，紫光展锐则是专注于中低端芯片设计。如果只说手机SOC芯片，那么海思的国内市场占有率在20%左右，紫光展锐则是10%左右。

下一个环节便是中国被美国重点卡脖子的制造环节，无论是制造技术还是制造设备，中国本土技术均存在不同程度的短板，这也是此前产业发展几十年一直存在的问题。美国的制裁，成为了让中国企业有了危机意识，开始针对被卡脖子的地方重点攻关。

制造产业链

中国本土最大的两家晶圆代工企业就是华虹集团和中芯国际，华虹集团专注于成熟制程的特色工艺，已经在65nm—22nm实现了自主可控。

而中芯国际则是成熟制程和先进制程双路发展，多年前已经建立起Fin FET生产线，并且为华为代工了一批14nm的麒麟710A，正在提升N+1工艺的7nm产能。

据集邦咨询（TrendForce）发布的报告指出，受本土市场的支撑，中芯国际已经拿下全球晶圆厂营收排名第三的好成绩，营收规模较去年提升了16%。华虹集团也因本土市场的红利在全球晶圆厂营收排名当中位列第六，营收规模较去年提升了25%。

我国的芯片产能优势明显，而且也已经进入到了快速发展时期，下面就来到了最为核心的制造设备领域。

制造设备是美国卡中国脖子的核心手段，在设备上面实现技术本土化是当下各大企业的主要目标。

实力较为强劲的设备企业就是北方华创，北方华创已经形成了刻蚀+薄膜沉积+热处理+湿法+离子注入的全品类设备布局。2025年3月，北方华创宣布推出旗下首款离子注入设备。6月份，北方华创宣布取得芯源微控股权，开始对光刻技术配套的涂胶显影设备进行技术提升。

这种全品类布局正在让北方华创成长为类似于美国应用材料、科磊一样的大型装备集团。

中微半导体是刻蚀机领域的龙头，占全球总刻蚀机出货量17%的市场份额，旗下最先进的刻蚀机支持5nm节点的芯片刻蚀工艺，已经进入到了台积电先进芯片的生产中。

拓荆科技制造的14nm气相沉积设备也已进入商业化环节，在中芯国际的生产线中实现了对部分进口设备的国产化替代。

在讨论话题最热烈的国产光刻机领域，上海微电子公司制造的28nm光刻机已经进入工艺测试环节。

工艺测试与量产商用是两个概念，工艺测试的目的是提升设备的可靠性和稳定性，让其保持在一个较为良好的制造水平，不能出现芯片良品率极低这种恶性情况。当测试机器在各方面达到合格水平之后，下一步才是将该设备进行量产，投入生产线商用。

28nm及以上的成熟工艺，我们已经实现了纯国产化的自主可控，将外部风险降到了最低。14nm的Fin FET晶体管工艺，我们正在对其整体的产业链进行自主技术研发。

而7nm及以下更加先进的工艺，我们则是需要等14nm实现纯国产化之后，再对先进工艺进行技术攻坚，稳步推进国产化技术的进度。