荷兰分析师：中国至少需要5年时间，才能勉强追上ASML的DUV光刻机

最近荷兰有个分析师的话，在半导体圈传疯了——他说中国想追上ASML的DUV光刻机最新水平，至少得熬5年，还只是“勉强追上”？这话是Insinger Gilissen公司的Jos Versteeg在2025年10月接受采访时说的，那时候ASML对中国的设备出口管制还在收紧，连带着ASML自己的中国营收占比都从2024年的36%往下降了。不过有意思的是，这管制反而逼着中国加速自己搞光刻机了，连工信部都把国产干式光刻机列进重大装备推广目录了，分辨率能到65纳米以下，套刻精度8纳米以内，已经开始推广用在成熟制程芯片上了。

ASML以前可离不开中国市场，2024年的时候中国还占它营收36%以上呢，结果2025年管制一升级，公司自己都预计要降到20%左右。不过ASML对中国产业的动静盯得可紧了，毕竟以前靠中国客户赚了不少，现在管制下只能看着营收掉。

ASML前CEO彼得·温宁克也说过，美国的管制更多是意识形态那套，跟当年对日本的半导体贸易战不一样——那时候人家有实打实的市场数据撑着，现在这管制根本没什么事实依据。他退休了还爱聊这些，看来也是真关心这行的走向。

中国工信部2024年9月就把国产氟化氩干式光刻机列进重大装备推广目录了，分辨率65纳米以下，套刻精度8纳米以内，已经进入推广阶段，专门用在成熟制程芯片生产上。跟浸润式比起来，干式不用搞液体介质控制那堆麻烦事，但精度匹配还是得反复验证才行，这可不是光造出来就完了的。

浸润式DUV光刻机就难多了，液体注入、对准系统、多重曝光这些环节都得协调好，光源稳不稳定、工作台动得准不准，直接决定成像效果。而且光学镜组是德国蔡司主导的，人家从显微镜起家，积累了1500多项专利，镜组的多层镀膜工艺要求高到离谱，厚度偏差得控制在特别小的范围里，这可不是随便哪家能搞定的。

国内也有企业在冲，比如舜宇光学，人家做镜头几十年了，从显微镜到消费级部件都有产品线。2025年7月14日，舜宇奥来在上海临港基地把首台核心设备搬进去了，还跟国有投资机构、半导体企业签了合作协议，重点搞集成电路光学部件的协同。

这协议主要是技术共享和应用场景对接，舜宇奥来这项目填补了国内微纳光学规模化生产的空白，从设计到制造再到整机应用，能形成完整链条。还涉及人工智能设备制造这些方向，推动光学技术落地。现在已经到小批量试产阶段了，进度还挺快。

ASML的专利覆盖了光刻机全流程，蔡司镜组的反射率优化、畸变校正算法都受保护。中国企业虽然资金和人才够，但实际验证数据得慢慢攒，这不是光砸钱就能出来的。韦尔斯蒂格就是看了这些才判断，追赶周期缩不了多少。国内干式设备已经起步了，浸润式还在攻关键子系统，一步一步来。

2025年的管制条例让不少设备交付计划变了，中国大陆工厂还被列进更多限制清单里。ASML其他对华业务还能做，但整体营收占比掉得明显。国内半导体产业链现在转向设备自给，成熟制程光刻机的应用范围慢慢扩大，毕竟自己有了才踏实。

舜宇光学子公司还跟中微半导体这些企业合作，启动国产集成电路设备在光学领域的在地协作，连碳化硅衬底材料都加进来了，开拓新材料应用场景。这些合作把资本、技术、场景优势凑一块，就是怕单一环节被卡脖子，产业自主化照着规划走，稳得很。

光刻机的光学系统整合测试得反复迭代，专利壁垒摆在那，企业只能从基础工艺抓起。蔡司的地位现在还稳得很，国内舜宇正通过项目攒经验。未来五年，技术差距肯定能缩小，但要完全对标ASML最新的DUV水平，还得持续砸钱投时间，急不来。

中国的光刻机在成熟制程领域用得越来越多了，ASML中国营收虽然掉了，但国内项目稳步推进。温宁克还在观察趋势，韦尔斯蒂格也继续做市场评估。关键光学产业链连接越来越紧，设计制造到应用的闭环初步形成了，产业进展就照着原来的节奏走，一步一个脚印。

参考资料：人民日报《我国半导体装备自主化取得新进展》；央视新闻《ASML对华出口管制影响分析》