北京
国家知识产权局信息显示，北京北方华创微电子装备有限公司申请一项名为“一种静电卡盘、工艺腔室、半导体工艺设备及自清洁方法”的专利，公开号CN121568554A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请公开了一种静电卡盘、工艺腔室、半导体工艺设备及自清洁方法，所述静电卡盘的顶面设置有多个气孔，用于向所述静电卡盘与所述静电卡盘所承载的晶圆之间通入惰性气体；所述静电卡盘的顶面具有目标粗糙度，用于当所述晶圆承载于所述静电卡盘上时，增大所述静电卡盘与所述晶圆之间的接触面积，并对通入所述静电卡盘与所述晶圆之间的惰性气体形成密封。本申请的静电卡盘表面，粗糙度较低（可以对气体形成密封），相当于减小了气隙厚度，有利于降低气隙热阻，而且整个表面粗糙度是一致的，可以提高晶圆温度均匀性。
天眼查资料显示，北京北方华创微电子装备有限公司，成立于2001年，位于北京市，是一家以从事电气机械和器材制造业为主的企业。企业注册资本114153.708311万人民币。通过天眼查大数据分析，北京北方华创微电子装备有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目1384次，财产线索方面有商标信息67条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可340个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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