北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料公司申请一项名为“具有多个圆盘的化学机械抛光垫调节器”的专利，公开号CN121568812A，申请日期为2024年1月。
专利摘要显示，本公开内容的实施例提供了一种用于化学机械抛光的具有多个圆盘的垫调节器。所述垫调节器包括：轴承环，所述轴承环连接到轴的下部分；外圆盘组件，所述外圆盘组件连接到所述轴的所述下部分，所述外圆盘组件、外圆盘挠性件、多个外圆盘设置在外圆盘的底表面上；以及内圆盘组件。替代地，所述外圆盘组件包括：多个外圆盘保持器；外圆盘连接器，所述外圆盘连接器连接所述多个外圆盘保持器；以及多个外圆盘，所述多个外圆盘设置在所述外圆盘保持器的底表面上。所述内圆盘组件包括挠性件，所述挠性件连接到所述外圆盘组件、所述内圆盘组件和所述轴。所述垫调节器可包括球形轴承组件，所述球形轴承组件耦接到所述轴的下部分。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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