北京
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国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“用于先进亚衍射成像的非线性光学量测的系统和方法”的专利，公开号CN121569244A，申请日期为2024年7月。
专利摘要显示，一种传感器设备，其可以包括瞬时光学图案、探测束和检测器。所述瞬时光学图案可以被配置成引发对准标记的材料改变，由此形成有效对准标记。所述探测束可以被配置成与所述有效对准标记相互作用。所述检测器可以被配置成测量由所述探测束产生的来自所述有效对准标记的衍射光。有利地，所述传感器设备可以利用可见光引发所述对准标记的折射率的瞬时改变，检测所述对准标记的亚波长特征，测量所述对准标记的不对称性，并且使所述传感器设备的分辨率增大到至少4倍。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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