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国家知识产权局信息显示，奥谱天成（武汉）光电科技有限公司申请一项名为“一种色差仪反射率的外推方法及装置”的专利，公开号CN121540285A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本申请实施例提供了一种色差仪反射率的外推方法及装置，可以计算所述参考光强和所述测量光强的比值得到反射率，然而对计算得到的反射率进行窗口数据的采集，从而可以根据模型参数，创建拟合误差函数，根据所述拟合误差函数对多个候选模型进行筛选，得到多个目标模型，并根据多个目标模型对预设窗口大小进行自适应调整，最后计算得到颜色的三刺激值，从而在保持光谱曲线平滑性的同时，通过局部自适应机制提升了测量的一致性，保障数据的物理合理性。
天眼查资料显示，奥谱天成（武汉）光电科技有限公司，成立于2025年，位于武汉市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，奥谱天成（武汉）光电科技有限公司专利信息16条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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