北京
国家知识产权局信息显示，广州市艾佛光通科技有限公司申请一项名为“一种双面曝光晶圆定位方法、装置、电子设备及存储介质”的专利，公开号CN121487548A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明提供了一种双面曝光晶圆定位方法、装置、电子设备及存储介质，涉及半导体制造技术领域。该方法包括步骤：接收反射光信号并通过分析获取晶圆正反两面的局部Z轴高度信息；根据局部Z轴高度信息，控制上下两个光学物镜轴向移动；在光学焦点平面调整完成后，获取包含晶圆正反两面对位标记的区域图像，并识别区域图像中对位标记的几何中心坐标；根据对位标记的几何中心坐标，计算晶圆正反面之间的对位偏差；根据对位偏差，控制工作台移动或旋转以补偿偏差。本发明的方法旨在解决晶圆正反面图形实际对准误差的技术问题，能够显著提高对位标记的识别精度，从而实现晶圆正反面图形的精确对准，克服了传统方法在应对晶圆形貌变化时的局限性。
天眼查资料显示，广州市艾佛光通科技有限公司，成立于2020年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本3422.4839万人民币。通过天眼查大数据分析，广州市艾佛光通科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目10次，财产线索方面有商标信息7条，专利信息194条，此外企业还拥有行政许可21个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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