北京
国家知识产权局信息显示，广州华星光电半导体显示技术有限公司申请一项名为“显示面板及其制备方法”的专利，公开号CN121463527A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请公开了一种显示面板及其制备方法，第一有源层和第二有源层位于基板上，第一有源层位于显示区，第二有源层位于非显示区。第一绝缘层包括位于显示区且覆盖第一有源层的第一子绝缘层，第一绝缘层的材料包括有机绝缘材料。第二绝缘层包括第三子绝缘层和第四子绝缘层，第三子绝缘层位于第一子绝缘层背离基板的一侧，第四子绝缘层位于第二有源层背离基板的一侧。第一栅极层位于第二绝缘层背离基板的一侧，第一栅极层位于显示区和非显示区。由于第一绝缘层的材料包括有机绝缘材料，因此第一绝缘层在形成过程中具有流动性和平坦性，所以能够对第一有源层进行均匀覆盖，减少形成第二有源层的过程对第一有源层造成的腐蚀。
天眼查资料显示，广州华星光电半导体显示技术有限公司，成立于2020年，位于广州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1750000万人民币。通过天眼查大数据分析，广州华星光电半导体显示技术有限公司参与招投标项目893次，专利信息866条，此外企业还拥有行政许可512个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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