北京
国家知识产权局信息显示，安徽越好电子装备有限公司申请一项名为“一种ION激光离子源辅助的磁控溅射镀膜系统及工艺”的专利，公开号CN121451133A，申请日期为2026年1月。
专利摘要显示，本发明属于TGV玻璃深孔镀膜技术领域，具体涉及一种ION激光离子源辅助的磁控溅射镀膜系统及工艺。所述系统包括真空室、设置于真空室内的基板，其特征在于，还包括分布于基板上的一个中心垂直靶与三个偏心动态倾角靶，中心垂直靶垂直设置于基板中心位置，三个偏心动态倾角靶与基板呈倾斜设置，且三个偏心动态倾角靶环设于中心垂直靶外围，三个偏心动态倾角靶构成一个等边三角形，中心垂直靶与该等边三角形中心位置重合；还包括配置于基板正上方中心位置的离子主光源；还包括设置于基板上的三个ION激光离子辅助源，每两个相邻的偏心动态倾角靶中心连线处设置一ION激光离子辅助源。本发明提升了表面均匀度U%分布控制精度。
天眼查资料显示，安徽越好电子装备有限公司，成立于2021年，位于滁州市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本4386.67万人民币。通过天眼查大数据分析，安徽越好电子装备有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目11次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息51条，此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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