北京
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国家知识产权局信息显示，中国计量大学;兴三星云科技股份有限公司申请一项名为“一种基于双功能颗粒的高耐磨Co-W复合镀层电解液及其配制方法和电沉积方法”的专利，公开号CN121451262A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种基于双功能颗粒的高耐磨 Co‑W 复合镀层电解液及其配制方法和电沉积方法，涉及材料表面工程技术领域。该电解液以水为溶剂，溶质在电解液体系中的质量百分比为：硫酸钴3.59‑8.07%，钨酸钠6.4‑14.4%，络合剂7.69‑17.3%，氯化钠1.92‑4.32%，缓冲剂2.56‑5.76%，碳化硅2.56‑5.76%，碳粉0.07‑0.15%，表面活性剂0.01‑0.03%；并基于该电解液，采用电沉积法制备得到高耐磨 Co‑W 复合镀层。本发明借助 Co‑W 合金基体的支撑作用与碳化硅、碳粉双功能颗粒的协同增效，显著提升镀层综合性能，且整体工艺便捷高效，适用于各工业零件的表面防护需求。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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