北京
国家知识产权局信息显示，江苏日久光电股份有限公司申请一项名为“增透减反膜及其制备方法”的专利，公开号CN121454658A，申请日期为2025年12月。
专利摘要显示，本发明公开了一种增透减反膜及其制备方法，增透减反膜包括依次层叠设置的基材层、加硬层、粘结层和复合增透层；复合增透层包括由第一增透层和第二增透层构成的至少两层增透层，至少两层增透层沿粘结层背离所述基材层的方向依次排布，且每层增透层的折射率沿背离所述粘结层的方向呈梯度递减设置；第一增透层和第二增透层均为多孔结构的氧化硅镀层；第一增透层和第二增透层的多孔结构均由磁控溅射工艺制备的金属掺杂硅氧化物镀层经蚀刻去除掺杂金属后形成。本发明于基材上制备纳米级多孔氧化硅膜层，以降低折射率。通过调整靶材中硅的比例调整孔隙率，实现折射率可调，并实现折射率递减，根据光学模拟多层搭配，达到超低折射率的目的。
天眼查资料显示，江苏日久光电股份有限公司，成立于2010年，位于苏州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本28106.6667万人民币。通过天眼查大数据分析，江苏日久光电股份有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目3次，财产线索方面有商标信息14条，专利信息238条，此外企业还拥有行政许可16个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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