北京
国家知识产权局信息显示，东莞泽攸科技有限公司申请一项名为“校准方法、电子束曝光机、电子束曝光系统、介质及产品”的专利，公开号CN121454869A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本申请公开了一种校准方法、电子束曝光机、电子束曝光系统、介质及产品，应用于电子束光刻技术领域。校准方法应用于电子束曝光机，电子束曝光机包括位移台和偏转线圈，校准方法包括：扫描预设标记图案，以生成第一标定图像；控制位移台移动，以使得预设标记图案位于偏转线圈的写场范围内；再次扫描预设标记图案，以生成第二标定图像；控制偏转线圈偏转，以使得第一标定图像和第二标定图像匹配，并读取匹配时偏转线圈的第一实际偏转电压值；基于第一实际偏转电压值和预设标记图案对应的理想偏转电压值的映射关系，校准偏转线圈。能够提升偏转线圈的校准精度，进而提升电子束曝光过程的准确性。
天眼查资料显示，东莞泽攸科技有限公司，成立于2022年，位于东莞市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本271.1292万人民币。通过天眼查大数据分析，东莞泽攸科技有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目11次，财产线索方面有商标信息6条，专利信息15条，此外企业还拥有行政许可3个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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