北京
国家知识产权局信息显示，成都西蒙光科激光技术有限责任公司申请一项名为“一种基于干涉的多层薄膜可饱和吸收镜及优化方法”的专利，公开号CN121386064A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明提供了一种基于干涉的多层薄膜可饱和吸收镜及优化方法，包括可饱和吸收材料薄膜，中间干涉层，金膜和硅基底；所述薄膜为具有可饱和吸收特性的平整薄膜；中间干涉层为沉积于金反射镜基底的ZnS薄膜层；金膜和硅基底共同构成金反射镜基底。通过调节所述薄膜和中间干涉层厚度达到薄膜干涉相消条件，使低光强时线性反射率极低；随光强增强，材料折射率变化和吸收系数下降直至被强光漂白，所述薄膜和中间干涉层的光学长度不再满足干涉相消，因此调制深度的上限不会因中间干涉层的引入而大幅下降。本发明能有效降低薄膜类可饱和吸收镜在低光强时的线性反射率或透过率而增大调制范围，达到提升调制深度的效果，本发明操作简单灵活性高，具有普适性。
天眼查资料显示，成都西蒙光科激光技术有限责任公司，成立于2025年，位于成都市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本200万人民币。通过天眼查大数据分析，成都西蒙光科激光技术有限责任公司专利信息2条。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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