北京
国家知识产权局信息显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司申请一项名为“偏置预存表的生成方法、减少OPC迭代次数的方法”的专利，公开号CN121364606A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，本发明公开了一种减少光学邻近效应校正迭代次数的方法。该方法首先通过对历史校正数据进行统计学习，建立一个偏置预存表。该表将不同类型的图形片段及其局部几何特征(如线宽和间距)映射至一个优化的特征偏置值。在进行校正时，首先对待校正版图的各片段查找预存表中对应的特征偏置值，进行一次预校正得到预处理版图，再将该预处理版图作为初始输入进行迭代计算。本发明通过提供一个更优的初始版图，有效减少了OPC迭代次数，缩短了运行时间，并提高了系统稳定性。
天眼查资料显示，上海华虹宏力半导体制造有限公司，成立于2013年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2046092.7759万人民币。通过天眼查大数据分析，上海华虹宏力半导体制造有限公司共对外投资了8家企业，参与招投标项目930次，财产线索方面有商标信息39条，专利信息5000条，此外企业还拥有行政许可429个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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