北京
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国家知识产权局信息显示，应用材料以色列公司申请一项名为“用于呈现与由检查系统发现的缺陷相关的数据的基于人工智能的方法”的专利，公开号CN121353156A，申请日期为2025年7月。
专利摘要显示，提供一种用于呈现通过检查半导体晶片或掩模产生的缺陷数据的方法，该方法包括接收包括每缺陷的多个属性的缺陷数据，使用t‑分布随机邻居嵌入来将缺陷属性从多维属性空间嵌入到低维空间中，以及在2D显示器上显示嵌入到低维空间中的缺陷数据作为散点图。一种用于检查晶片或掩模的系统，该系统包括用于呈现通过检查晶片或掩模产生的缺陷数据的用户界面，该用户界面实现一种方法，该方法包括接收包括每缺陷的多个属性的缺陷数据，使用t‑分布随机邻居嵌入来将缺陷属性从多维属性空间嵌入到低维空间中，以及在2D显示器上显示嵌入到低维空间中的缺陷数据作为散点图。还描述了相关装置和方法。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
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