日本企业在光刻胶领域从上世纪80年代起就占据主导位置。信越化学、JSR、东京应化这些公司控制全球高端市场份额超过90%,特别是ArF和EUV光刻胶,几乎完全由它们供应。
2024年中国从日本进口光刻胶金额达到13.6亿美元,占总进口量的54.5%。这些日企依赖技术积累和全产业链布局,从树脂合成到感光剂配方都牢牢掌握。全球晶圆厂高度依赖日本产品,尤其是先进制程离不开这些材料。
日本经济产业省把光刻胶视为关键工具,在出口管制中反复强调其战略价值。日本企业对华出口占其海外营收近30%,中国市场成为它们最大海外需求来源。日本光刻胶生产却高度依赖中国上游原料,高纯氟化氢和稀土元素90%来自中国供应。
这种相互依赖让日本在实际操作中投鼠忌器。2025年下半年,日本开始收紧对华出口审批,周期延长到半年,部分高端产品供应减少,但从未走到全面断供的地步。
日本企业清楚,一旦彻底切断,不仅中国产能受影响,它们自身生产线也会因原料短缺而停摆。日本2019年对韩国类似限制后,韩国快速提升自给率,日本企业损失市场份额,这次对华更不敢轻易全面动手。
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2025年下半年日本出口收紧后,中国没有被动等待,而是直接出手。商务部在2026年1月7日正式公告,对原产于日本的进口二氯二氢硅启动反倾销立案调查。调查期覆盖2024年7月至2025年6月,初步证据显示日本产品价格累计下跌31%,对国内产业造成损害。
二氯二氢硅是半导体薄膜沉积关键原料,日本企业大量依赖中国供应,这次调查直接针对上游,增加日企出口成本和不确定性。同一时间,2025年12月湖北兴福电子以4626.78万元收购湖北三峡实验室光刻胶用光引发剂制备专有技术及实验设备。
这项技术针对G/I线光刻胶核心感光化合物,已完成扩试验证,指标与进口相当,具备产业化条件。收购完成后,企业快速推进中试和量产准备,预计2026年形成产能。
彤程新材KrF光刻胶市占率稳步提升,南大光电ArF光刻胶通过中芯国际等客户验证,实现批量供货。国产光刻胶在成熟制程已覆盖较高比例,KrF和ArF逐步进入中高端市场。
2025年日本对华光刻胶销售额下降接近47%,国产替代空间快速打开。中国市场规模大,需求占全球45%以上,日企丢掉份额等于自断臂膀。中国上游原料控制权让日本难以承受反制代价,两招组合让所谓王牌失去威力。
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2025年以来,日本光刻胶对华出口持续下滑,国产产能释放后,这一趋势没有逆转迹象。日企转向韩国等地建厂,但中国订单流失已成事实。中国光刻胶形成阶梯式替代:G/I线国产化率超过20%,KrF接近50%,ArF在14nm工艺验证通过并批量应用。
政策支持力度加大,国家大基金三期重点投入光刻胶领域,地方补贴采购国产产品。2026年国产光刻胶自给率预计进一步提升,KrF和ArF成为突破重点。日本企业营收压力增大,市场份额从高端守门员转向被动防守。
中国通过贸易措施维护公平竞争,通过技术攻坚掌握主动。全球半导体材料格局正在重构,中国占据产业链上游和市场优势位置。日本多年酝酿的反制彻底失效,光刻胶从强势工具变成普通商品。
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