北京
国家知识产权局信息显示，上海赫宣机电设备有限公司申请一项名为“一种用于半导体工艺尾气的监测处理方法及系统”的专利，公开号CN121324589A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明公开了一种用于半导体工艺尾气的监测处理方法及系统。该方法通过接收半导体制造设备的工艺配方信息，基于预存的工艺与尾气关联模型预测尾气的浓度和流量，并据此对混合腔和预备腔的尾气存量进行规划；在预测到高浓度尾气时，控制预备腔向混合腔注入低浓度尾气以形成缓冲底料。通过实时监测尾气工况数据，根据浓度参数进行智能分流：浓度正常时导入燃烧腔，浓度过低时导入预备腔暂存，浓度过高时导入已含缓冲底料的混合腔。随后动态判断混合腔浓度，并补充低浓度尾气直至浓度达标后导入燃烧腔，本发明实现了尾气处理的前瞻预测与动态闭环控制，有效缓冲浓度冲击，提升处理效率与系统安全性。
天眼查资料显示，上海赫宣机电设备有限公司，成立于2014年，位于上海市，是一家以从事金属制品、机械和设备修理业为主的企业。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，上海赫宣机电设备有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目5次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息3条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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