北京
国家知识产权局信息显示，中航凯迈（上海）红外科技有限公司申请一项名为“一种红外焦平面探测器芯片的先电极结构及制备方法”的专利，公开号CN121335246A，申请日期为2025年9月。
专利摘要显示，一种红外焦平面探测器芯片的先电极结构及制备方法，N型衬底采用扩散或离子注入方式成结，且通过湿法腐蚀或干法刻蚀制备形成台面结构；电极层直接制备于衬底材料的台面上，与衬底台面形成欧姆接触；钝化层为双层钝化膜结构，铟柱层通过光刻显影、镀膜机及剥离工艺制备，与暴露后的电极层直接接触；本发明基于磁控溅射、光刻、湿法腐蚀等成熟半导体工艺，无需新增专用设备，可直接适配现有生产线，降低了技术升级与产业化应用的成本，为低成本、大尺寸小像元红外焦平面阵列光电传感器的规模化应用奠定基础。
天眼查资料显示，中航凯迈（上海）红外科技有限公司，成立于2021年，位于上海市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本29116.7万人民币。通过天眼查大数据分析，中航凯迈（上海）红外科技有限公司参与招投标项目385次，专利信息46条，此外企业还拥有行政许可38个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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