北京
国家知识产权局信息显示，卡尔蔡司SMT有限责任公司申请一项名为“将温度调节中空结构结合到基板中、特别是结合到光学元件的基板中的方法、制造光学元件的方法和基板、光学元件和半导体技术设备以及结构化电子部件”的专利，公开号CN121335774A，申请日期为2024年6月。
专利摘要显示，本发明涉及一种将温度调节中空结构（22）结合到基板（12）、特别是光学元件（8）的基板（12）、特别是EUV投射曝光设备的反射镜（10）的基板（12）中的方法，所述方法包括以下步骤：（A）提供由基板材料（12a）构成的基板（12）；（B）创建中间结构（40），其包括改性的基板材料（44）的中间层（42）和中间中空结构（46），所述中间中空结构至少在一些区域由中间层（42）界定，其中改性的基板材料（44）具有相对于基板材料（12a）的增加的蚀刻敏感性；（C）将处理介质（90）引入中间中空结构（46），借助于处理介质通过蚀刻工艺去除改性的基板材料（44）的中间层（42），从而产生温度调节中空结构（22）。步骤（B）中的中间结构（40）是通过（B.1）将改性光束（56）连续聚焦在改性位置（66）上而产生的，从而在改性位置（66）处产生改性的基板材料（44）；以及（B.2）将烧蚀光束（70）连续聚焦在烧蚀位置（72）上，从而在烧蚀位置处去除材料（44；12a）。本发明还涉及用于制造光学元件（8）的方法和基板（12）以及光学元件（8）。另外，本发明涉及一种半导体技术设备（6）和一种结构化的电子器件（224）。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
