北京
国家知识产权局信息显示，镓国科技（常州）有限责任公司申请一项名为“一种外延氧化镓薄膜的方法、β相氧化镓薄膜及应用”的专利，公开号CN121295345A，申请日期为2025年10月。
专利摘要显示，本发明提供一种外延氧化镓薄膜的方法、β相氧化镓薄膜及应用，该方法包括：（1）将六方碳化硅衬底置于沉积区内；（2）将沉积区的温度升温至450~750℃，向沉积区内输入氧源和镓源，在六方碳化硅衬底的表面外延生长ε相氧化镓薄膜，外延生长时间为1~5min；（3）停止向沉积区内输入氧源和镓源，将沉积区的温度升温至900~1100℃，保温30~90min，使ε相氧化镓薄膜转化为β相氧化镓缓冲薄膜；（4）继续向沉积区内输入氧源和镓源，在β相氧化镓缓冲薄膜的表面外延生长β相氧化镓薄膜，外延生长时间为0.2~5h。该方法可有效缓解晶格失配问题，限制了β相氧化镓在六方碳化硅衬底上对称生长的现象，有效促进了应力的释放，提高了晶体的质量。
天眼查资料显示，镓国科技（常州）有限责任公司，成立于2024年，位于常州市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本120.8333万人民币。通过天眼查大数据分析，镓国科技（常州）有限责任公司共对外投资了1家企业，专利信息2条。
声明：市场有风险，投资需谨慎。本文为AI基于第三方数据生成，仅供参考，不构成个人投资建议。
本文源自：市场资讯
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
