北京
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国家知识产权局信息显示，通用技术集团机床工程研究院有限公司;西安交通大学申请一项名为“一种适配小磨头抛光工具的微结构抛光垫及其制备方法”的专利，公开号CN121290263A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本发明公开了一种适配小磨头抛光工具的微结构抛光垫及其制备方法，抛光垫包括依次连接的抛光层、缓冲层和背胶层；抛光层的表面设置有环形沟槽和放射沟槽，环形沟槽从抛光层的中心向外依次同心布置多组，放射沟槽沿抛光层轴线环向阵列布置多组，放射沟槽的内端延伸至抛光层中心，放射沟槽的外端延伸至抛光层的边缘，放射沟槽的沟槽深度从抛光层中心至抛光层边缘逐渐衰减；缓冲层上设置有规则排列的中空支撑结构。利用多组同心圆沟槽与放射沟槽组成的复合纹理，且放射沟槽的深度由中心向边缘逐渐递减，可提高抛光液流动性和磨屑排除效率，并解决边缘效应，利用中空支撑结构，可兼具刚度与弹性缓冲，吸收抛光冲击，保证均匀性。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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