北京
国家知识产权局信息显示，广东先导微电子科技有限公司申请一项名为“一种磷化铟晶片的卡塞清洗方法及清洗系统”的专利，公开号CN121266892A，申请日期为2025年11月。
专利摘要显示，本申请涉及半导体材料技术领域，具体公开了一种磷化铟晶片的卡塞清洗方法及清洗系统。本方法将装夹有多个磷化铟晶片的卡塞浸入酸性清洗液中进行超声波浸洗，随后将卡塞转移至溢流的超纯水中进行漂洗；取卡塞浸入复合清洗液中浸洗，再将卡塞转移至溢流的超纯水中进行兆声波漂洗，最后以慢速提拉的方式将卡塞提出水面，进行惰性气体吹扫，得到表面洁净、完整性高的磷化铟晶片。本申请以卡塞为夹持载体，通过依次实施酸性浸洗、微蚀浸洗、兆声波漂洗及分阶段慢速提拉工艺，可以高效去除晶片表面金属污染物，同时有效规避清洗过程给晶片造成的损伤，实现清洗效率、清洗效果的协同兼顾，解决了现有的清洗技术存在的效率低下与清洗均匀性差的技术缺陷。
天眼查资料显示，广东先导微电子科技有限公司，成立于2020年，位于清远市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本54384万人民币。通过天眼查大数据分析，广东先导微电子科技有限公司共对外投资了5家企业，参与招投标项目44次，财产线索方面有商标信息18条，专利信息546条，此外企业还拥有行政许可195个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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