北京
国家知识产权局信息显示，国芯半导体（仪征）有限公司取得一项名为“一种具有改善毛边功能的半导体外延片装置”的专利，授权公告号CN223723282U，申请日期为2025年1月。
专利摘要显示，本实用新型涉及半导体晶片生产技术领域，具体为一种具有改善毛边功能的半导体外延片装置，包括反应室，所述反应室的顶部设有密封盖，所述密封盖的中部插接有气管，所述反应室的内部安装有石墨盘，所述石墨盘的上表面设有装配组件，所述石墨盘的下表面设有驱动组件，所述反应室的内壁内嵌有加热管，改良后的半导体外延片装置，通过螺旋缠绕的加热管均匀地分布热量，驱动组件带圆盘旋转，使晶体均匀地接触加热源，晶体表面薄膜生长速率保持一致，避免产生不规则的毛边，通过磁力的吸引，左夹板和右夹板相互靠拢，可根据不同规格的晶体规格灵活调整，将中间的晶体夹持固定，固定后的晶体不会发生位移，薄膜生长更加均匀。
天眼查资料显示，国芯半导体（仪征）有限公司，成立于2011年，位于扬州市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本2980万美元。通过天眼查大数据分析，国芯半导体（仪征）有限公司参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息2条，专利信息9条，此外企业还拥有行政许可2个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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