北京
国家知识产权局信息显示，合肥埃科光电科技股份有限公司取得一项名为“一种用于平场校正的均匀光源装置”的专利，授权公告号CN223711985U，申请日期为2025年2月。
专利摘要显示，本实用新型公开了一种用于平场校正的均匀光源装置，属于平场校正领域。均匀光源装置包括面光源，遮光箱，其内置多个含通孔的挡板，还包括：TEC，设置在面光源内部或表面，用于降低面光源发光部的温度；照度传感器，设置在遮光箱内的非遮挡出光路径上的任一照度非零处，用于间接判断遮光箱出光口的照度变化；控制器，连接TEC控制电路、光源驱动，控制器根据照度传感器反馈的照度变化，控制TEC工作电压和光源驱动电压，以保证遮光箱出光口照度维持稳定。基于上述结构，控制器利用TEC能够对面光源的温度进行调节，以维持面光源的温度恒定，并根据照度传感器判断遮光箱出光口的照度变化，调节光源的驱动电压，提升了面光源的均匀性。
天眼查资料显示，合肥埃科光电科技股份有限公司，成立于2011年，位于合肥市，是一家以从事研究和试验发展为主的企业。企业注册资本6800万人民币。通过天眼查大数据分析，合肥埃科光电科技股份有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目25次，财产线索方面有商标信息16条，专利信息372条，此外企业还拥有行政许可14个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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