380亿采购额变研发力，中国光刻专利全球第一，6成是非对称创新

前言

前段时间美国知名问答网站Quora上一个引人注目的问题引发了广泛讨论：中国凭什么敢不经美国允许，就私自研发DUV光刻机？

短短一个问题，不仅暴露了某些美国网民的傲慢心态，更折射出当前中美科技博弈的复杂局面。

那么究竟是什么让中国有勇气挑战美国在芯片领域的霸主地位？美国的“封杀令”能否真正阻止中国的科技进步？国际社会又是如何看待这场持久的科技较量？

美国科技霸权

在这个高科技竞技场上，似乎有一种根深蒂固的潜意识：美国手里不仅攥着核心技术，还握着赛场上的红黄牌，不仅是不仅是参赛者，更是裁判员。

只要华盛顿没有点头，其他国家的跑鞋就不该落地。然而现实是，这场关于光刻机的博弈，早已超越了所谓的“许可”范畴，变成了一场关乎生存与破局的生死竞速。

那种把中国科技进步视为“违规动作”的情绪，在2025年秋天的美国互联网论坛上几乎成了主流。TechPowerUp论坛的评论区里，不仅有技术控在分析数据，更充斥着一种地盘被侵犯的焦躁。

有人贴出标题党十足的帖子，声称“中国试图逆向工程ASML机器结果搞坏了”，下面的跟帖里，满是对“偷技术”的臆测和对全球供应链“秩序”被打破的担忧。

甚至在ASML首席执行官公开强调商业规则时，美国网友们的解读也只有一面倒的强硬：你既然想在这个全球体系里玩，就得先去华盛顿“领号排队”。

哪怕是在SemiWiki这种原本相当专业的半导体社区，discussions也变了味。专家们拉出的时间线图表，本意是分析技术代差，结果成了网友们声讨中国“顶风作案”的证据——你看，美国从2019年就开始严防死守，如今连维修服务都掐断了，你们怎么还是不想着投降，反而非要自己另起炉灶？

这种心态的背后，是对历史惯性的某种迷之自信。回顾过去，西方通过EUV联盟整合全球资源，2003年就由美国掌握了核心光源技术。虽然光刻机霸主ASML身在荷兰，但穿透股权结构和供应链网络，大半命脉其实捏在美国资本手里。

这种掌控感让他们产生了错觉：就像当年《瓦森纳协定》能成功让中国的科研项目经费紧缩、被迫依赖进口一样，现在的DUV禁令理应能起到同样的“定身”效果。

然而，大洋彼岸的“裁判们”似乎漏算了一点：当规则不再是为了公平竞技，而是变成了纯粹的绞杀工具时，被封锁者唯一的选择就是推翻围墙。

美国对中国芯片产业的“围剿”，从来都不是心血来潮的警告，而是一套层层加码、直至窒息的精密算法。早在2019年10月，美国商务部就对EUV光刻机下了死手，但这仅仅是序幕。随着中国在成熟制程上的发力，美国人的胃口迅速膨胀。

2022年10月9日，拜登政府的一纸新规，将封锁线硬生生扩到了DUV领域，试图把中国半导体制造能力死死摁在28nm这一道坎上，绝不允许向10nm甚至更先进制程迈进半步。

接下来的几年，这种绞杀变得愈发具体而冷酷。荷兰作为ASML的母国，原本还试图在盟友压力下保留一丝余地，但在华盛顿的胡萝卜加大棒面前，防线很快崩塌。2023年3月，补充规定出台，出口开始实行“逐案审查”。

到了9月1日，新规正式落地，尽管有短暂的缓冲期，但高端型号的供应量实际上已经被削减了八成。

最令行业感到寒意的是对“存量”的打击，仅仅堵住新机器还不够，美国的目标是让中国工厂里已经在运转的机器也变成废铁。2024年8月31日，面对美国国务院赤裸裸的“二级制裁”威胁，荷兰方面只能低头，计划限制ASML的售后维修服务。

这直接导致ASML位于上海的售后中心陷入停摆。曾经日夜嗡鸣、支撑着精密制造流水线的光刻机，因为缺了关键的软件更新或零部件，声音戛然而止。

这一连串的操作，逻辑简单粗暴：买，不让你买。修，不让你修。就连一些非核心的计量和软件工具，也在2024年底被美国列入了管制黑名单。

按照美国网友在Reddit上的推演，这套组合拳打下来，中国的芯片制造不死也得脱层皮。毕竟，早在2025年初，荷兰方面就已经将绝大部分ASML的对华销售视为禁区。

可是，这一连串足以让任何依附型经济体崩溃的重拳，打在中国身上，却激发出了一种意料之外的化学反应，因为中国从来都不是一张白纸。

许多人只看到了近几年的焦灼，却忘了把时间轴拉长。其实早在上世纪60年代初，中国的科研人员就已经组装出了首批接触式光刻设备，70年代末甚至在这个领域已经在国际上占有一席之地。

后来的掉队，与其说是技术不行，不如说是被“造不如买”的思潮和国际封锁带来的进口依赖所误导。但那种骨子里的技术基因，并没有消失。

中国“自救”

当外购的大门被狠狠关上，“自救”成了唯一的出路。而这次自救，不仅有着庞大的市场需求作为底气，2025年中国大陆对DUV设备的需求高达280台，仅汽车电子芯片的需求增速就达到了23%，更有着完整的产业链协同。

不再是单打独斗，而是一场从光源到双工件台的集团军作战。像上海微电子（SMEE）这样的核心企业，从2015年起就咬定青山不放松，专注DUV攻关。

而被美国人认为“必须依赖进口”的核心部件，也正在一个个被攻克：科益虹源拿出了量产级的40WArF准分子激光光源，华卓精科的双工件台定位精度冲到了1.7nm，清华大学团队的系统精度更是达到了2nm。这些枯燥的数据背后，是原本牢不可破的垄断壁垒上被凿出的一个个缺口。

论坛上的美国看客们还在讨论“偷技术”的时候，中国的专利布局已经悄然换了天地。2025年的数据显示，中国在光刻领域的专利申请量已居全球首位，其中六成以上属于“非对称创新”技术。

也就是说，中国工程师们并没有傻傻地去撞西方的专利墙，而是绕了条路，用不同的技术路线实现了同样、甚至更好的效果。

这种“反向倒逼”的成果在2025年集中爆发。从中芯国际启动SMEE28nm原型机测试，到裕量生的设备上线运行，反馈回来的不仅是激光脉冲的闪烁，更是实实在在的产能潜力。尽管初期良率还需要爬坡，但结合多重曝光技术，这些设备已经展现出了向7nm甚至5nm进军的可能性。

对于大洋彼岸的“裁判”来说，最讽刺的结局正在浮现：原本指望通过禁令让中国屈服，结果不仅没能锁死技术，反而把全球最大的买家逼成了最强的竞争对手。

曾经，中国市场贡献了ASML接近一半的营收。但在层层禁令下，这个比例预计将跌至20%。ASML的财报已经不再掩饰这种焦虑，直言美国贸易限制导致市场掉头向下，2026年的需求前景更是堪忧。更让华尔街担心的是，中国高达380亿美元的芯片设备采购额（2024年上半年数据），正在快速转化为本土产业链的养料。

国产化率从2023年的不足5%跃升至2025年的15%，在部分细分领域如90nm光刻机，上海微电子甚至拿下了国内八成的份额。

美国网友在Facebook群里感叹中国自给自足的步伐太快，威胁到了西方的定价权。这话其实只说对了一半。中国研发DUV，从来不是为了威胁谁，而是因为除此之外别无选择。当别人把门窗都钉死的时候，拆房子还是打地洞，就不需要再征求房东的意见了。

结语

这场因“未获许可”而起的喧嚣，最终证明了一个朴素的道理：技术虽然有壁垒，但创新的意志无法被“许可制”封印。美国不仅失去了大半个中国市场，更失去了一个通过商业规则延缓竞争对手步伐的机会。

而对于中国光刻机产业来说，那段因为没有“红黄牌”而只能停在起跑线上的日子，已经彻底成为历史。未来的路虽然还要爬坡过坎，但方向盘，终究是握在了自己手里。

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