国产光刻胶四“小巨人”，谁执牛耳？

伴随着中日关系近日走向一定程度紧张局势，据传日本产光刻胶将对中国全面断供。有报道称，"日本似乎已从本月中旬起全面停止向中国出口光刻胶的出货"，而此次中断是“中国担忧的最坏情况”。尽管日本政府和企业并未正式宣布此事，但业界已普遍将其视为既定事实。

然而，在政策支持、市场需求拉动以及企业技术创新的多重驱动下，中国电子化学品行业国产化进程显著加速，以彤程新材、南大光电、上海新阳、晶瑞电材为代表的国内上市公司，正在光刻胶核心技术、高端产品和市场拓展上形成多维突破，实现对部分日系进口产品的替代。

日本光刻胶或收紧断供

随着日本首相高市早苗最近的言论进一步加剧了日中关系紧张，如今有传言称日本已经收紧了对光刻胶的出口控制，多家日本公司被指与限制对华出口有关。据报道，占据全球约80%市场份额的信越化学和东京应化已暂停向部分中国晶圆厂供应ArF光刻胶。

但业内人士指出，这一传言可能源于信越化学因KrF产能有限而限制向规模较小的中国晶圆厂供货。尽管日本方面并未发布正式的出口禁令，但此举仍引发了外界的猜测。

此前，从11月18日至19日开始，未经证实的消息在国内社交媒体上迅速传播，声称“佳能、尼康和三菱化学已暂停向中国出货光刻胶”。受此影响，一些被认为有望打破日本在高光刻胶市场垄断地位的中国公司股价显著上涨。但这一说法值得怀疑，因为佳能和尼康实际上生产光刻机及零部件，而三菱化学仅供应光刻胶原料Lithomax。

不过，如果传言属实，可能对中国半导体产业造成重要影响。

目前，日本合成橡胶(JSR)、信越化学、东京应化等企业控制着全球光刻胶市场70%以上的份额，以及高端EUV光刻胶市场高达95%的份额。虽然中国已成为全球光刻胶需求增长最快的市场之一，但自给率仍然很低，光刻胶整体进口依赖度高达80%-90%。

对于中国半导体产业而言，对日本的依赖度极高。例如用于制造110至180nm芯片的氪氟(KrF)深紫外光(DUV)光刻胶，中国只能自供5%。而用于制造7至65nm芯片的氟化氩(ArF)DUV光刻胶，以及7nm以下先进制程所需的EUV光刻胶则完全依赖日本供应。

据报援引业内人士的话称，日本在光刻胶市场占据主导地位，在与其他国家发生政治或经济冲突时，光刻胶往往是其首先打出的施压牌。通常，高端光刻胶的保质期只有六到十二个月，几乎不可能大规模囤积。如果原材料供应和设备维护受到干扰，中国主要的晶圆代工厂可能会减产，甚至可能在一个月内面临完全停产。

目前，全球半导体市场正面临全面的供应短缺，不仅HBM的需求激增，标准DRAM的需求也同样旺盛，这被视为中国企业加速发展的关键时刻。但日本暂停光刻胶出口导致这一关键材料的采购出现不稳定，中国存储器产品进入市场的速度可能会受到影响，进而可能引发全球供应链和整体价格结构的变动。

一位业内人士指出，“尤其是在存储器领域，中国企业一直在加紧建设工厂、扩大产能，以应对近期DRAM价格的飙升，但日本的出口限制可能会成为一大障碍。”

面对可能升级的限制，中国已推动多项举措来加强光阻剂的自主能力。

这些措施包括在2025年10月推出中国首个EUV光阻剂测试标准，旨在建立更清晰的技术框架；引导国家集成电路产业投资基金二期优先支持光刻胶等核心材料；以及敦促国内晶圆厂优先采购合格的本土产品。尽管进口仍将占主导地位，但中国的目标是在2026年实现40%所需光刻胶的自给自足，这一目标远高于2024年约10%的国产化率。

此外，还有业内人士称，如果日本全面实施光刻胶禁运，中国可能以稀土出口禁令作为回应。中国控制着全球约90%的稀土供应，而日本的电动汽车和磁铁产业高度依赖这些材料。同时，日本半导体材料生产所需的镝、铽等稀土90%依赖从中国进口，这也可能成为中国反制的筹码。

四“小巨人”多线破局

在政策支持、市场需求拉动以及企业技术创新的多重驱动下，中国电子化学品行业国产化进程显著加速，如国内光刻胶企业已实现从树脂、光敏剂到成品的全链条自主化，部分产品已进入国际半导体大厂供应链，在光刻胶核心技术、高端产品和市场拓展上形成多维突破。

据了解，中国从事光刻胶研发、生产的企业主要包括南大光电、彤程新材、晶瑞电材、上海新阳。得益于国内需求增长和政策层支持，四家上市公司业绩普遍向好，验证了KrF/ArF光刻胶业务的成长潜力。同时，其在技术与产能突破、国产化替代进程上也有序推进。

2025年三季报显示，彤程新材营收25.23亿元，归母净利润5.20亿元，同比增长11.46%，营收与净利润规模领跑行业；南大光电营收18.84亿元，同比增长6.83%，归母净利润同比增长13.24%，稳健的业绩为光刻胶业务的持续研发与扩产提供了资金保障；上海新阳营收13.94亿元，同比增长30.62%，归母净利润同比增幅达62.70%；晶瑞电材实现营收11.87亿元，尽管净利润规模仅为1.28亿元，但增长幅度高达19202.65%。

在光刻胶细分市场中，i-Line、KrF、ArF光刻胶是中国大陆12英寸集成电路晶圆制造主要应用的光刻胶。随着12英寸晶圆产能的提升以及先进应用和技术节点的提升，预计KrF光刻胶、ArF到2028年市场规模将达106.90亿元，占中国大陆半导体光刻胶市场份额的71.12%。

其中，在KrF光刻胶领域，多家国内上市公司已实现量产并通过核心客户验证。

据悉，彤程新材控股的北京科华所产KrF光刻胶国内市占率超40%，上海基地1000吨半导体光刻胶产能步入试生产，其自产树脂的光刻胶产品投入市场，超高分辨率KrF负性光刻胶还在重点存储客户处完成初步验证；晶瑞电材的KrF光刻胶已量产且销量同比增长数倍；上海新阳的KrF光刻胶则借助配套显影液、蚀刻液的“材料包”优势，批量供应国内晶圆企业。在其它国内企业布局方面，八亿时空的百吨级半导体KrF光刻胶树脂高自动化柔性/量产双产线项目已实现量产。

在ArF光刻胶领域，头部企业已攻克关键技术，进入量产爬坡阶段。南大光电是国内唯一实现28nmArF光刻胶规模量产的企业，良率达99.7%，宁波500吨/年产线2025年底将全面达产；彤程新材的ArF光刻胶已实现销售；上海新阳的ArF干法通过验证，浸没式也已获得订单。此外，鼎龙股份潜江30吨/年产能获两家晶圆厂订单，300吨在建产能2025年第四季度试运行；近期上市的恒坤新材ArF光刻胶已实现小批量销售。

进一步来看，彤程新材依托集团资源搭建电子化学品产业化平台，全面发力光刻胶及配套试剂、显示面板光刻胶等多元产品矩阵，上半年半导体光刻胶实现营业收入近2亿元，同比增长超50%，连续两年保持50%以上的高速增长。从产品结构来看，ArF光刻胶、KrF光刻胶、抗反射涂层、EBR等新产品系列在报告期内陆续通过国内多家客户验证，逐步实现上量。

相对而言，南大光电、上海新阳、晶瑞电材均以湿电子化学品、前驱体等集成电路材料为核心根基，重点聚焦光刻胶产品的研发与市场推广。

目前，南大光电的多款光刻胶及配套材料产品在关键客户处的测试进展顺利，前期获单的ArF光刻胶产品持续稳定供应，多款产品通过测试后有望逐步导入客户供应链。同时，上海新阳在半导体高端光刻胶开发领域取得突破性进展，已建成覆盖i-Line、KrF、ArF干法、ArF浸没式等各类光刻胶的完整平台，涵盖研发合成、配制生产、质量管控及分析测试环节。

此外，晶瑞电材的光刻胶主要应用于半导体晶圆厂前道工序的光刻、显影等关键环节，由子公司瑞红苏州负责生产，上半年销售收入为1.06亿元，占当期营业收入的比重为13.79%，毛利率为44.22%。作为国内光刻胶领域的先驱企业，瑞红苏州目前已实现近百种型号光刻胶的量产供应，产品覆盖紫外宽谱系列、g-Line系列、i-Line系列等多个品类。其紫外宽谱系列光刻胶多年来持续稳居国内市占率首位；i-Line光刻胶系列在完成国家重大科技项目02专项后，已正式进入规模化供货阶段，服务于国内知名半导体企业。

在DUV高端光刻胶领域，该公司进展突出，包括多款KrF光刻胶已成功量产，ArF光刻胶已实现小批量出货，另有多款产品已向客户送样并推进验证工作。

由此可见，彤程新材、南大光电、上海新阳、晶瑞电材可在ArF、KrF、i线、g线等不同梯次产品上实现不同程度的量产、供货等，且维持较高研发投入，推动国产光刻胶从低分辨率（g线、i线）向中高分辨率（KrF、ArF）突破，以及逐步降低国内半导体企业对进口光刻胶的依赖，实现对部分日系产品的替代。尽管仍面临上游原材料依赖、认证周期长与竞争压力大等挑战，但整体来看，国产光刻胶国产化进程稳步推进，从技术研发到商业化落地逐步突破，未来随着研发投入持续转化为产品竞争力，国内光刻胶进口替代空间将进一步打开。