北京
国家知识产权局信息显示，宁波润华全芯微电子设备有限公司申请一项名为“一种单片式湿法刻蚀方法”的专利，公开号CN121035021A，申请日期为2025年9月。专利摘要显示，本发明申请涉及一种单片式湿法刻蚀方法，属于半导体制造及微纳加工技术领域，单片式湿法刻蚀方法包括：在对一旋转的晶圆进行湿法刻蚀的过程中，控制一刻蚀液喷头在所述晶圆的表面上方移动，使得所述喷头在晶圆表面上方的径向位置发生变化；其中，对于所述移动过程中的任意两个不同的径向位置，所述喷头在距离所述晶圆中心较远的径向位置上的移动速度，不小于其在距离所述晶圆中心较近的径向位置上的移动速度；并且，所述移动速度在所述移动过程中不恒定。本发明申请能够改善晶圆刻蚀均匀性。
天眼查资料显示，宁波润华全芯微电子设备有限公司，成立于2016年，位于宁波市，是一家以从事专用设备制造业为主的企业。企业注册资本3584.0571万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波润华全芯微电子设备有限公司参与招投标项目144次，财产线索方面有商标信息10条，专利信息168条，此外企业还拥有行政许可22个。
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本文源自：市场资讯
作者：情报员
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