北京
金融界2025年7月4日消息，国家知识产权局信息显示，成都沃特塞恩电子技术有限公司申请一项名为“提高晶体生长厚度实时在线测量准确性的方法、设备及介质”的专利，公开号CN120252538A，申请日期为2025年04月。
专利摘要显示，本发明涉及一种提高晶体生长厚度实时在线测量准确性的方法、设备及介质，包括获取晶体生长过程中每一生长周期拍摄到的第一图像和第二图像；根据第一图像确定第一在线测量厚度以及在每一生长周期的第一张第二图像中，标定第二标定框和第二晶体中心位置，并根据第二标定框和第二晶体中心位置，调整对应生长周期内所有第二图像的图像视觉属性，得到第二目标图像；根据预设台面直径、第二目标图像的中心像素以及第二视角方向相对第一视角方向的夹角确定纵向像素尺寸；在第二视角方向下确定第二标定框在第二目标图像中覆盖的目标晶体图像，根据目标晶体图像中像素的像素值、夹角以及纵向像素尺寸，确定在第二视角方向下的每一晶体的第二在线测量厚度。
天眼查资料显示，成都沃特塞恩电子技术有限公司，成立于2015年，位于成都市，是一家以从事仪器仪表制造业为主的企业。企业注册资本359.0947万人民币。通过天眼查大数据分析，成都沃特塞恩电子技术有限公司共对外投资了3家企业，参与招投标项目67次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息287条，此外企业还拥有行政许可5个。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
