北京
金融界2025年6月21日消息，国家知识产权局信息显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司申请一项名为“光刻机浸没罩的清洁方法”的专利，公开号CN120178615A，申请日期为2025年05月。
专利摘要显示，本发明提供一种光刻机浸没罩的清洁方法。所述光刻机浸没罩的清洁方法包括：提供多个标准晶圆，多个标准晶圆表面均具有凹槽图形；将多个标准晶圆分为第一晶圆组和第二晶圆组；将第一晶圆组的标准晶圆依次置于光刻机内进行虚拟曝光以清洁光刻机的浸没罩，其中在虚拟曝光过程中，凹槽图形卡住浸没罩中的杂质以将杂质带出浸没罩；将第二晶圆组的标准晶圆依次置于光刻机内进行虚拟曝光，再检测第二晶圆组的标准晶圆表面的杂质状况以检验所浸没罩的清洁状况。这样可以有效地清洁浸没罩中的杂质，且不需要停机，有助于提高清洁效率，降低清洁浸没罩对光刻机产能的影响，还可以检验浸没罩的清洁状况，确保浸没罩的清洁质量。
天眼查资料显示，芯恩（青岛）集成电路有限公司，成立于2018年，位于青岛市，是一家以从事其他制造业为主的企业。企业注册资本1006720.789212万人民币。通过天眼查大数据分析，芯恩（青岛）集成电路有限公司共对外投资了2家企业，参与招投标项目170次，财产线索方面有商标信息15条，专利信息710条，此外企业还拥有行政许可55个。
本文源自：金融界
作者：情报员
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