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金融界2025年6月16日消息，国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“清洁光刻装置的部分”的专利，公开号CN120153324A，申请日期为2023年11月。
专利摘要显示，从光刻装置的夹具清除污染颗粒被描述。已使用的夹具具有被污染颗粒污染的突节顶部，该污染颗粒需要在返回服务之前被清除。当前，为了完全清洁这样的夹具的突节顶部，覆盖突节顶部的硬且导电的涂层被剥离并且新鲜的涂层被施加。这需要将夹具从卡盘断开连接，剥离来自夹具的非突节区域的各种涂层，并且去除高电压连接。此后，高电压连接被重建，并且各种涂层被重新施加，然后使夹具合格。最后，夹具被重新连接到卡盘，并且制造可以继续。一种新的清洁方法使得能够清洁突节顶部，而无需使夹具断开连接或取下盖来执行突节顶部刷新，这节省了数小时或者数周的停机时间。
本文源自：金融界
作者：情报员
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