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金融界2025年6月3日消息，国家知识产权局信息显示，广州方邦电子股份有限公司;珠海达创电子有限公司申请一项名为“一种电磁屏蔽膜”的专利，公开号CN120076283A，申请日期为2025年02月。
专利摘要显示，本发明公开一种电磁屏蔽膜，该电磁屏蔽膜包括绝缘层和屏蔽层；所述绝缘层具有第一侧面，所述第一侧面开设有若干个第一开孔；所述屏蔽层设置于所述第一侧面，所述屏蔽层开设有若干个第二开孔，所述第二开孔的数量小于所述第一开孔的数量，且至少部分所述第二开孔与所述第一开孔连通。本发明通过在绝缘层上开设有若干个第一开孔，且屏蔽层上开设有若干个至少部分与第一开孔连通的第二开孔，从而无需在屏蔽层中形成孔径较大、数量较多的孔便能够显著提高电磁屏蔽膜的散热性能，同时保证了电磁屏蔽膜的屏蔽效能，此外，还能够在确保散热性能的同时，减少屏蔽层上所开设的第二开孔的数量，从而能够进一步保证电磁屏蔽膜的屏蔽效能。
本文源自：金融界
作者：情报员
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