北京
分享至
金融界2025年6月3日消息，国家知识产权局信息显示，北京至格科技有限公司申请一项名为“一种二维表面浮雕光栅制备方法”的专利，公开号CN120065394A，申请日期为2025年03月。
专利摘要显示，本发明提供一种二维表面浮雕光栅制备方法，首先，在基板表面制备第一维度表面浮雕光栅，得到具有第一维度表面浮雕光栅的基板；然后，在具有第一维度表面浮雕光栅的基板继续制备第二维度表面浮雕光栅，在基板上得到二维表面浮雕光栅；其中，第一维度表面浮雕光栅的设定槽深为1000‑1500nm，第二维度表面浮雕光栅的设定槽深为300‑450nm；第一维度表面浮雕光栅的栅线方向与第二维度表面浮雕光栅的栅线方向垂直。本发明提供的二维表面浮雕光栅制备方法，制备的二维表面浮雕光栅衍射效率高且具有偏振选择特性。
本文源自：金融界
作者：情报员
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
