河南
分享至
先进光刻技术中国落后10-15年
荷兰阿斯麦CEO：没有EUV光刻机，中国很难量产5nm芯片。
他说：“物理规律就是物理规律。事实已经证明如果没有极紫外光刻技术（EUV），大规模量产制造5纳米以上的制程，是极其困难的。”
看来，他还是如此傲慢与偏见，觉得中国制造并量产不了5纳米以上的芯片。
大家觉得这个是不是真的？
她还称：“当然，你总能制造出一点芯片，但要以合适的成本，合适的量产做到这一点，是非常困难的。”
在他看来，物理规律谁都违反不了。要想制造5纳米以及以上的高端芯片，就必须要用到它的极紫外光刻机。
不然，你们都别想着制造能够规模量产5纳米以上高端芯片。
他认为，不管美国还是其他地方都证明了这一点，要做5纳米就离不开EUV光刻机。
他还说：由于中国没有EUV极紫外光刻技术，我们就几乎阻止了中国超越5纳米或3纳米的节点能力。
他还扬言：“中国在先进技术方面落后10-15年的地位”
这话就像当年说我们造不出原子弹一样，看不起我们的最后都会被我们打脸，估计我们5纳米或者先进光刻机都秘密测试了。
他还是不理解技术是人创造的，我们中国人不比老外差……
声明：个人原创，仅供参考
特别声明：以上内容(如有图片或视频亦包括在内)为自媒体平台“网易号”用户上传并发布，本平台仅提供信息存储服务。
Notice: The content above (including the pictures and videos if any) is uploaded and posted by a user of NetEase Hao, which is a social media platform and only provides information storage services.
